Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9181885 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist eine Abscheidevorrichtung auf Siliziumbasis, mit der dünne Filme auf Halbleitersubstratscheiben abgeschieden werden. Das System wurde speziell für die Anforderungen fortschrittlicher Halbleiterherstellungsprozesse entwickelt. Die Einheit ist in der Lage, die Dicke, Abdeckung und Gleichmäßigkeit der abgeschiedenen dünnen Filme mit beispielloser Präzision zu steuern. AMAT P-5000 verfügt über die branchenweit höchste Vakuumleistung und Prozesskontrolle. Die Maschine ist mit einer robusten kapazitiv gekoppelten Plasmaquelle ausgestattet, die eine optimale Steuerung der Folienabscheidungsparameter ermöglicht. Diese Plasmaquelle arbeitet im Einklang mit der fortschrittlichen Regelung des Werkzeugs und ermöglicht es Benutzern, Dünnschichtparameter genau und präzise zu regulieren. Darüber hinaus enthält APPLIED MATERIALS P 5000 vorinstallierte Abscheidungsrezepte und zahlreiche pneumatische Komponenten stehen zur Verfügung, um den Asset-Betrieb anzupassen und die Dünnschichtabscheidung zu optimieren. Diese Komponenten sorgen dafür, dass AMAT P5000 stets auf höchstem Niveau arbeitet. P5000 bietet auch In-situ-Überwachung in Echtzeit, so dass Benutzer die Dünnschichtbildung und Änderungen der Abscheidungsparameter von Anfang bis Ende schnell und genau beurteilen können. Zusätzlich enthält das Modell einen Korrosionsschutz, der dazu beiträgt, die Lebensdauer der Geräte durch den Schutz von Heizungen und Gasleitungen vor Verunreinigungen zu verlängern. P-5000 arbeitet bei einer maximalen Temperatur von 1050 Grad Celsius und kann Substrate bis zu acht Zoll groß aufnehmen. Sein Standard-Kammerdesign beschleunigt die Durchsatzraten und verkürzt Zykluszeiten mit einem patentierten Retikelmuster, was die Notwendigkeit zusätzlicher Ausrüstung überflüssig macht. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 eine robuste, zuverlässige und präzise Abscheidungssystemlösung, mit der dünne Filme mit hoher Genauigkeit erzeugt werden. Die robusten Funktionen, das effiziente Design und die innovativen Funktionen machen es zur idealen Wahl für jeden fortschrittlichen Halbleiterherstellungsprozess.