Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9181901 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für den Einsatz in Halbleiter- und MEMS-Herstellungsprozessen entwickelt wurde. AMAT P-5000 ist eine Hochdurchsatzausrüstung zur Beschleunigung der Waferbearbeitung und Minimierung von Ausfallzeiten und verfügt über eine benutzerfreundliche Benutzeroberfläche und erweiterte Automatisierungsfunktionen. APPLIKATIONSMATERIALIEN P 5000 CVD-Reaktor besteht aus einer Vakuumkammer, die von einer Edelstahlschale umschlossen ist, zusammen mit einem Substratträger zur Positionierung der Wafer innerhalb der chemischen Abscheidekammer. Im Inneren der Kammer befindet sich ein an der Decke angebrachter Substrathalter und ein Gaseinlaß, der es ermöglicht, chemische Dampfreaktanten in die Kammer einzubringen. Die Kammer ist ferner mit einem eigenen Wärmetauschersystem, einer Vakuumpumpe und einem Suszeptor ausgestattet, der die erforderliche thermische Stabilität und Gleichmäßigkeit bietet, um präzise Verarbeitungsergebnisse zu gewährleisten. Bei chemischen Abscheidungsprozessen regelt eine rechnergesteuerte Einheit den Druck, die Temperatur und den Gasstrom innerhalb der Maschine, so dass sich das gewünschte Material auf dem Substrat abscheidet. Das Vakuumwerkzeug schafft eine Niederdruckumgebung in der Kammer, die eine erfolgreiche und effiziente Abscheidung chemischer Spezies ermöglicht. APPLIED MATERIALS P5000 ist so konzipiert, dass es erweiterbar ist, sodass das Asset für bestimmte Anforderungen konfiguriert und aktualisiert werden kann. Zum Beispiel bietet AMAT den Reaktor in mehreren Modellen an, die jeweils mit Optionen und Zubehör ausgestattet werden können, die den Anforderungen der Kundenanwendung am besten entsprechen. Das Modell ist auch für Sicherheitszwecke mit Verriegelungen ausgelegt, die das Gerät abschalten, wenn bestimmte Bedingungen nicht erfüllt sind. Abschließend ist P 5000 ein hochmoderner CVD-Reaktor, der speziell für den Einsatz in Halbleiter- und MEMS-Fertigungsprozessen entwickelt wurde. Das effiziente Design und die anpassbaren Funktionen machen es zu einer idealen Lösung für die anspruchsvollen Anforderungen dieser Anwendungen.