Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9185352 zu verkaufen
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Hochleistungs-Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor. Dieser Reaktor ist in der Lage, eine Vielzahl von Dünnschichtbeschichtungen herzustellen, die für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden können. Es ist mit einer innovativen Gasförderanlage ausgestattet, die den Betrieb mit einer breiten Palette von Gasen und einem fortschrittlichen Plasmaleistungssystem ermöglicht, das den Betrieb bei hohen Temperaturen und Abscheideraten ermöglicht. AMAT P-5000 nutzt eine Verriegelungseinheit zum Be- und Entladen von Materialien. Dadurch entfällt jeglicher Eingriff des Bedieners und es wird sichergestellt, dass das Produkt nicht der rauen Prozessumgebung ausgesetzt ist. Die isolierte Kammer enthält zwei Elektroden, die zur Erzeugung des Plasmas mit einer Hochspannungsversorgung verbunden sind. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 verwendet eine Gasströmungssteuerungsmaschine, um den Gasstrom in die Kammer genau zu regeln. Dieses Tool ist in der Lage, Durchflussraten, Temperaturen und Drücke in Echtzeit zu messen, um optimale Prozessabläufe zu gewährleisten. Das Flow Control Asset ermöglicht auch präzise und wiederholbare Prozessbedingungen für konsistente Filmabscheidung. P-5000 ist ein sehr vielseitiger Reaktor, der alle Arten von Substraten verarbeiten kann. Es verfügt über ein fortschrittliches Temperiermodell, das eine gleichmäßige Erwärmung über die gesamte Substratoberfläche zur gleichmäßigen Filmabscheidung ermöglicht. P5000 ist auch in der Lage, großflächig und mit unterschiedlichen Liniengeschwindigkeiten Filme mit hohen Geschwindigkeiten abzuscheiden, um eine gewünschte Dicke und Gleichmäßigkeit in den Folien zu erreichen. APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor ist ideal für den Einsatz in Branchen wie Halbleiter und Optoelektronik, Flachbildschirm, MEMS und Photovoltaik sowie in Forschung und Entwicklung. Die UHV-Kammer und die robuste, zuverlässige Ausstattungskonstruktion machen sie zu einer guten Wahl für Anwendungen, die eine umfassende Prozesskontrolle, eine präzise Temperaturregelung und zuverlässige Ergebnisse erfordern. Es ist ein einfach zu bedienendes, kostengünstiges System, das sich gut für eine Vielzahl von Industrie- und Forschungsanwendungen eignet, die eine präzise Dünnschichtabscheidung erfordern.
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