Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9185353 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9185353
Wafergröße: 5"
PECVD System, 5".
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein fortschrittlicher Reaktor, der speziell für modernste Halbleiterherstellungsprozesse entwickelt wurde. Dieses Gerät ist mit den neuesten Technologien in der Prozesssteuerung, Automatisierung und Robotik ausgestattet, um seinen Betrieb zu unterstützen. AMAT/APPLIED AMAT P-5000 verfügt über eine flexible Systemarchitektur, mit der mehrere Prozessrezepte und Substrate in einer Einheit verwendet werden können. Darüber hinaus verfügt es über eine leistungsstarke Gasverteilungs- und Steuerungsmaschine für optimierte Prozessausbeute und Gleichmäßigkeit. APPLIED MATERIALS P 5000 ist mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet, um seine Leistung zu maximieren. Seine Kammer hat eine zylindrische Konstruktion mit einem Ionengraben, der ein gleichmäßiges Ätzen, eine geringe Verschmutzung und eine gute Gasverteilung gewährleistet. AMAT P5000 verfügt auch über eine speziell entwickelte Hochleistungs-Plasmaquelle, die eine schnelle Abscheidung, Löschung und Schichtaustauschraten ermöglicht. Darüber hinaus verfügt P5000 über ein hochpräzises Wafer-Spann- und Substratspannwerkzeug, das eine zuverlässige und stabile Substratausrichtung bietet und somit für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist. Um eine maximale Prozesskontrolle zu gewährleisten, ist AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 mit einem großen Substrattemperaturregler und einer Prozessüberwachung ausgestattet. Darüber hinaus können seine mehreren integrierten automatisierten Controller programmiert werden, um die Kammer- und Prozessbedingungen ohne Benutzereingriff zu überwachen. Das eingebettete Sicherheitsüberwachungsmodell überwacht die Teilsysteme und Alarme bei Auslösung, um sicherzustellen, dass der Reaktor jederzeit sicher und zuverlässig arbeitet. P-5000 verfügt auch über ausgefeilte Funktionen für genaue, wiederholbare Prozesse. Das Gasleitungsdesign ermöglicht eine optimierte und konsistente Gasströmungsabgabe und Mischungen mit höherwertigen Schichten. Darüber hinaus verfügt APPLIED MATERIALS P-5000 über eine eigene Steuerung zum Abrufen von Sensor- und Aktuatordaten aus allen Teilsystemen und zum Einstellen von Gasleitungen mit maximalem Wirkungsgrad. Dieser Controller verfügt auch über eine erweiterte Wafer-Profilierungsausrüstung für eine engere Prozesssteuerung. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktor ist eine ideale Wahl für Präzisions-Halbleiterherstellung. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen kann es die Qualität und Ausbeute von hochmodernen Halbleiterbauelementen verbessern. Seine flexible Systemarchitektur und zuverlässige Prozessleitsysteme gewährleisten einen zuverlässigen Betrieb und sind somit eine zuverlässige Wahl für die Fertigung.
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