Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9186158 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Reaktortyp, der in chemischen Aufdampfverfahren, insbesondere bei der Abscheidung dünner Filme auf Halbleiterscheiben, eingesetzt wird. Diese Art von Geräten ermöglicht eine äußerst gleichmäßige Abscheidung von Folien über die gesamte Oberfläche des Wafers und eignet sich somit bestens für die Herstellung komplexer elektronischer Bauteile. AMAT P-5000 ist ein temperaturgesteuerter, horizontaler, rotierender Waferreaktor mit mehreren Quellen, der sowohl für die Nieder- als auch für die Hochdruckverarbeitung konzipiert ist. Sein Design besteht aus zwei Quellen und acht Duschköpfen, die alle kreisförmig angeordnet sind. Eine einzige Quelle befindet sich in der Mitte des Reaktors und ist zu den Duschköpfen hin abgewinkelt. Dieses Design ermöglicht eine gleichmäßige Filmabscheidung über die gesamte Waferoberfläche und liefert ein hochwertiges Produkt. APPLIED MATERIALS P 5000 kann bei Temperaturen von 500 bis 950 ° C arbeiten und ist mit einem Infrarot-Temperatursensor ausgestattet, der die Gleichmäßigkeit auf der gesamten Waferoberfläche überwacht. Darüber hinaus ermöglicht ein geschlossenes Temperaturregelsystem eine präzise Temperatureinstellung für eine gleichmäßige Filmabscheidung über den Wafer und ermöglicht die Verarbeitung sowohl von einschichtigen als auch von mehrschichtigen Strukturen. An der Spitze des Systems befindet sich eine Vakuumkammer, die die Duschkopfmontage aufnimmt und von der Umgebung abschirmt. Diese Vakuumkammer beherbergt einen Gasverteiler, der eine gleichmäßige Gasverteilung auf die Duschköpfe gewährleistet. Die Duschkopfanordnung besteht aus horizontal gekrümmten, im wesentlichen rechteckig angeordneten Düsen mit einer runden Öffnung in der Mitte und vier zusätzlichen Düsen in den Ecken des Kreises. An die Vakuumkammer schließt sich die Prozesskammer an, die die Substrate - typischerweise Siliziumwafer - aufnimmt und in direktem Kontakt mit den Duschköpfen steht. Im Inneren der Prozesskammer befindet sich eine Hochvakuumpumpe, die die gewünschte Atmosphäre in der Kammer beibehält. Schließlich enthält AMAT P 5000 Packung Top-Temperatur- und Drehzahlregler, die eine präzise Steuerung der Parameter des chemischen Dampfabscheidungsprozesses ermöglichen. Hierdurch wird sichergestellt, dass Materialien gleichmäßig auf dem Wafer abgeschieden werden und dass Materialeigenschaften wie Kristallinität und Oberflächenrauhigkeit sehr gleichmäßig sind. Die Kombination dieser Regler ermöglicht optimale Parametereinstellungen für alle Arten der Filmabscheidung.