Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9190859 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9190859
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1992
Etcher, 6" 1992 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 verkörpert die neuartige Reaktortechnik für ein breites Anwendungsspektrum. Es ist ein vollautomatischer Plasma thermische chemische Dampfabscheidung (PECVD) Reaktor ideal für Film- und Beschichtungsprozesse. Es ist eine fortschrittliche Ausrüstung, die eine breite Palette von Materialien mit präziser Kontrolle ablegen kann. Als Inline-PECVD-System verfügt es über die Kapazität, einen hohen Durchsatz mit Geschwindigkeit, Qualität und Steuerbarkeit bereitzustellen. AMAT P-5000 ist mit einer robusten und zuverlässigen Prozesskammer mit einem einzigen Port-Mehrzweckdesign konzipiert. Der Port ist ein Mehrzweckmodul, das mit einer Vielzahl von optionalen Substrateinführungen, Probentransporten, Gaslieferungen und Probenentfernungshardware ausgestattet ist. Es wurde entwickelt, um kontrollierte Temperaturen und präzise Abscheideraten über einen weiten Bereich von Temperaturen und Drücken innerhalb der Kammer bereitzustellen. Die Kammer kann sowohl niedrigen als auch hohen Druck mit präziser Temperaturregelung aufrechterhalten. Die Kammer ist mit einer verstärkten Keramikwand ausgestattet, die ihre Haltbarkeit und lange Lebensdauer gewährleistet. Es verfügt außerdem über eine präzise Plasmasteuerung und eine präzise Temperaturmessung. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 ist mit mehrachsiger Robotik zur präzisen Substratsteuerung ausgestattet. Das Steuergerät besteht aus einer präzisen SPS-basierten Robotersteuerung, die in die Reaktormaschine integriert ist. Es bietet präzise Betätigung und präzise Bewegungssteuerung für die mehrachsige Substratpositionierung. Zusätzlich kann der präzise SPS-Controller Abscheidungsparameter steuern, einschließlich Temperatur, Druck, Substratgröße, Abscheidungsbereich, Abscheidewinkel und Gasdurchflussrate. Dieser Reaktor verfügt über einen Hochleistungs-Bewegungsregler und kann mit mehreren Werkzeugspitzen für unterschiedliche Substratgröße, Winkel und Positionsmerkmale konfiguriert werden. Es verfügt auch über erweiterte Software einschließlich einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche (GUI). In Bezug auf die allgemeine Betriebsleistung ist P5000 mit einem fortschrittlichen Temperaturregelwerkzeug ausgestattet, das genaue und wiederholbare Abscheidungsergebnisse ermöglicht. Es bietet auch überlegene Prozesswiederholbarkeit, Echtzeit-Bildanalyse, hohe Wiederholbarkeit eines einzelnen Rezepts und ein breites Abscheidefenster. Darüber hinaus steigert diese robuste Anlage nicht nur die Produktivität, sondern reduziert auch die Kosten für Komponenten und Produktumschlagzeiten erheblich. Kurz gesagt, AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 ist ein automatisierter PECVD-Reaktor, ideal für Folien- und Beschichtungsanwendungen, der eine präzise Steuerung und überlegene Leistung gewährleistet.
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