Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9191088 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9191088
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
CVD System, 8"
(2) Chambers
Process: WXZ
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein 25mm geschlossener Reaktor, der eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsprozessen ermöglicht. Es bietet eine umfassende Prozesssteuerung in einem kompakten und kostengünstigen Gehäuse und ist somit ideal für die Halbleiter-, Flachbildschirm- und optoelektronische Industrie. AMAT P-5000 Reaktor ist in der Lage, fortschrittliche Dünnschichtabscheidung über verschiedene Vakuum- und Plasmaumgebungen, einschließlich Ultrahochvakuum (UHV) und Ultra Low Vacuum (ULV) Bedingungen bereitzustellen. Ausgestattet mit einem UHV-Netzteil (Ultra-High-Voltage) und einem fortschrittlichen Steuerungssystem ermöglicht es präzise Erkundung der Materialwissenschaft, um die Abscheidung von dünnen Filmen auf einer Reihe von Materialien und Substraten zu erleichtern. Die ein- oder doppelseitige Verarbeitung des Systems eignet sich auch ideal für Fertigungsprozesse, insbesondere zur Erzeugung von Dünnschicht-Heteroverbindungen. APPLIED MATERIALS P 5000 nutzt eine proprietäre Arbeitskammerplattform, die bis zu drei Temperaturzonen bietet. Dies ermöglicht die effiziente Verarbeitung einer Vielzahl von Substratgrößen und -formen und ermöglicht eine vielseitigere Palette von Dünnschichtabscheidungen. Das innovative Design der Kammer ermöglicht aufeinanderfolgende Heiz-, Kühl- und Folienabscheidungsmöglichkeiten und ermöglicht so schnellere und effizientere Bearbeitungszeiten. Der Reaktor ist auch mit einem fortschrittlichen Gasmischsystem ausgestattet, das in der Lage ist, das Gasgemisch automatisch zu steuern und eine manuelle Einstellung für eine optimale Prozesssteuerung zu ermöglichen. Dies bietet ein Maß an Komfort und Effizienz, da die digitale Steuerungs-Benutzeroberfläche von AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Rezept-Speicherung und -Abruf sowie die Erstellung spezieller Prozessabläufe ermöglicht. P-5000 Reaktor ist auch einzigartig mit einem Lastschloss-Transfer-Port ausgestattet, der eine breite Palette von Größen und Formen von Substraten ermöglicht. Gekoppelt ist dies mit einem Rasterelektronenmikroskop (SEM), das eine Vor-Ort-Analyse von dünnen Filmen ermöglicht. Dies trägt dazu bei, teure Verarbeitungs- und Entwicklungszeiten zu reduzieren und gleichzeitig eine höhere Qualität und engmaschige Kontrolle der Prozessparameter und Fertigprodukte zu gewährleisten. AMAT P 5000 ist ein fortschrittlicher, hochleistungsfähiger Reaktor, der sich ideal für Dünnschichtprozesse in vielen Branchen eignet. Es bietet umfassende Prozesssteuerungsfunktionen und Benutzerfreundlichkeit und ist damit ein wertvoller Vorteil für diejenigen, die die Effizienz bei der Entwicklung und Produktion von Dünnschichten maximieren möchten.
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