Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9210301 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein fortschrittlicher Plasmaprozessreaktor für die Halbleiterherstellung. Der Reaktor bietet eine Reihe von Funktionen, die den immer komplexeren Anforderungen der modernen Halbleiterverarbeitung gerecht werden. Die Geräte können für eine Vielzahl von Prozessen eingesetzt werden, einschließlich Ätzen, Abscheiden und Implantat. AMAT P-5000 verfügt über eine mehrzonige Prozesskammer, die einen höheren Durchsatz, eine bessere Gleichmäßigkeit und verbesserte Erträge ermöglicht. Die Kammer ist von einer Reihe eng gekoppelter Hilfsprozessmodule umgeben, die eine entfernte Plasmaquelle, einen HF-Generator, einen Regler, einen Elektronen-Zyklotron-Resonanzkasten und einen Massenstromregler umfassen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 hat auch integrierte Oberflächencharakterisierungsfähigkeiten, so dass es Filmdicke, Widerstand und andere Parameter messen kann. AMAT P5000 verwendet ein direkt angetriebenes Vakuumsystem, um eine Niederdruckumgebung aufrechtzuerhalten. Dadurch erreicht die Kammer einen Basisdruck von 5 mTorr, wodurch der Reaktor sowohl für Hoch- als auch Niederdruckplasmaverfahren gut geeignet ist. Das Gerät verfügt auch über einstellbare Gassysteme, die eine präzise Gasströmungsregelung ermöglichen, was wiederholbare Prozessergebnisse erleichtert. P-5000 ist für Hochleistungs-Plasmaoperationen mit einer Vielzahl von Ätzungen, plasmaverbesserter chemischer Dampfabscheidung und Ionenstrahlimplantation konzipiert. Es verfügt über große einteilige, mittenöffnende Wafer und kleine mehrteilige Wafer bis zu 8 Zoll. Die großen Wafer können bis 130 ° C und die kleinen Wafer bis 400 ° C erwärmt werden. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine Hochgeschwindigkeits-Wafer-Lade-/Entladefähigkeit und ein Hochgeschwindigkeits-Gaspanel für eine schnelle und präzise Gaszufuhr. APPLIED MATERIALS P5000 ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen konzipiert, einschließlich der Herstellung von VLSI-Schaltungen, Halbleiterleistungsbauelementen, MEMS-Bauelementen und optischen Strukturen. Das Tool wird von einem leistungsstarken Host-Computer-Asset unterstützt, mit dem Geräteparameter wie Druck, Wafertemperatur und Zeit überwacht und gesteuert werden können. Die Software enthält auch eine 3D-Modellierungsfunktion, mit der Prozessergebnisse visualisiert und optimiert werden können. AMAT P 5000 ist ein leistungsstarker, fortschrittlicher Reaktor, der den sich entwickelnden Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Der Reaktor bietet eine präzise Temperatur-, Druck- und Gasregelung, die eine detaillierte Kontrolle der Prozessumgebung ermöglicht. Mit seinen großen Waferkapazitäten, dem High-Speed-Wafer-Handling und hochpräzisen Prozessfähigkeiten ist P5000 eine ideale Lösung für eine Vielzahl fortschrittlicher Plasmaprozesse.