Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9210302 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein induktiv gekoppelter Plasma- (ICP) -Reaktor, der für ein hocheffizientes, präzises Ätzen von strukturierten und Deckfolien ausgelegt ist. Der Reaktor ermöglicht eine gleichmäßige Plasmazusammensetzung und Temperaturverteilung über das Substrat, bietet hervorragende Kristallqualität und verbesserte Ätzprofile mit minimaler Variation. Die Geräte sind mit fortschrittlicher Prozesssteuerung, Überwachung und Fernunterstützung vollständig automatisiert und ermöglichen eine schnelle und einfache Einrichtung und den Zugriff auf die Prozessparameter. AMAT P-5000 wird von einer hocheffizienten Elektronenzyklotronresonanz (ECR) -Quelle angetrieben, die hochdichtes Plasma und eine hohe Kontrolle über die Ätzmechanismen bietet. Das ICP-System verfügt zudem über ein Hybrid-Pulsfrequenz-Netzteil für überlegene elektrische Leistung und überlegene Top-Down-anisotrope Ätzergebnisse. Das Gerät ist dreidimensional geätzt und ermöglicht die Strukturierung komplexer 3D-Strukturen, die für die Herstellung modernster Elektronik- und Optoelektronik-Komponenten benötigt werden. Die anspruchsvollen automatisierten Prozesse von APPLIED MATERIALS P 5000 werden über eine grafische Benutzeroberfläche verwaltet und die Maschine ist mit fortschrittlicher Prozesssteuerung, Überwachung und Überdruckfunktionen ausgestattet. Das Werkzeug ist in der Lage, eine breite Palette von Substratmaterialien zu handhaben, wie Si, SiO2, Si3N4 und Polysilizium, so dass die Herstellung von Mikroskala-Muster und Strukturen bis 25 nm. P5000 hat sich als äußerst zuverlässig und effizient im Ätzbetrieb erwiesen und bietet mit effizienter Nutzung von Verbrauchsmaterialien, reduzierten Prozesszykluszeiten und verbesserter Vakuum-Asset-Performance den höchsten Durchsatz. Darüber hinaus ist das Modell wartungsarm und kostengünstig, mit minimalen Ausfallzeiten. Der Reaktor erleichtert zudem reinraumfreundliche Anlagen und den Betrieb mit minimaler Umweltbelastung. Insgesamt ist P-5000 eine fortschrittliche ICP-Ätzausrüstung, die für Durchlaufzeiten, konsistente Genauigkeit und wiederholbare Prozessergebnisse entwickelt wurde. Seine vielseitigen Eigenschaften ermöglichen die Herstellung komplexer 3D-Strukturen, die die Herstellung hochentwickelter und zuverlässiger Elektronik- und Optoelektronik-Komponenten ermöglichen.