Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9214227 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein fortschrittliches reaktives Ionenätzersystem (RIE), das zur Verwendung bei Materialien wie Siliziumscheiben und anderen harten Materialien bestimmt ist. Es wurde entwickelt, um eine verbesserte Ätzratengleichförmigkeit, Ätzselektivität und Prozesswiederholbarkeit durch Verwendung von leistungsfähigem Ionenbeschuss und einheitlicher Plasmaerzeugung zu bieten. Die Kammer von AMAT P-5000 ist aus Edelstahl gefertigt und so umschlossen, dass Schadstoffe und Partikel beim Eintritt in den Prozess begrenzt werden. Es ist mit Optionen für eine Ladeschloss, Wafer-Handling-Systeme und Gas-Fördersysteme. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 ist identisch mit ANGEWANDTEN MATERIALIEN P5000 Plus, der einzige Unterschied ist die Aufnahme eines Druckreglers in das Plus-Modell. AMAT P 5000 ist mit einer Electron Cyclotron Resonance (ECR) -Quelle ausgestattet, um direkt ein Plasma hoher Dichte mit einer gleichmäßigen Verteilung von Ionen zu erzeugen. Dieses einzigartige Feature unterscheidet P5000 von herkömmlichen RIE-Systemen. Es enthält auch ein Hochleistungs-HF-Matching-Netzwerk, das in der Lage ist, eine sehr breite Palette von Ätzleistungen zu erzeugen. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 verfügt über ein Dual-Frequenz-Gaseinspritzsystem, das Ätzgase bei unterschiedlichen Drücken fördert, um die Druckgleichförmigkeit über die gesamte Kammer aufrechtzuerhalten. Die Schnittstelle des Systems ist benutzerfreundlich und ermöglicht eine einfache Programmierung komplexer Ätzrezepte. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 kann für Ätzanwendungen in einer Vielzahl von Materialien verwendet werden, einschließlich Silizium, Glas, Quarz und Saphir. Es kann zum Ätzen von harten Materialien in Substrate, wie integrierte Schaltungen und Waferebene Verpackungskomponenten verwendet werden. Es ist auch in der Lage, tiefe anisotrope Ätzungen, die ein einzigartiges Merkmal, dass nur wenige andere RIE-Systeme bieten können. P 5000 bietet viele Vorteile beim Ätzen von harten Materialien. Es kann eine extrem gleichmäßige Ätzrate und sehr reproduzierbare Ätzergebnisse liefern. Sein breites Spektrum an Ätzleistungen macht es für verschiedene Anwendungen geeignet. Die Gleichmäßigkeit des Ionenbeschusses hilft auch, die gleiche Ätzrate über das gesamte Substrat zu halten. Die robuste Konstruktion sorgt für langfristige Zuverlässigkeit und geringere Wartungskosten.