Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9217907 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9217907
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
CVD System, 8"
Process: SIO
Process chamber:
Chamber A & B: SIO
Chamber D: ETCH
Chamber version:
Chamber A & B: VAT ISO Valve
Chamber D: Standard
RF Generator type:
Chamber A & B: OEM-12B
Dry pump type:
Chamber A, B, D & L/L: EBARA 50x20 UERR 6M-J
Throttle valve type:
Chamber A, B & D: Non heated
VME System:
20 Slots
CPU: Synergy
Video: VGA
SEI
AI
AO
(4) DI/DO
(4) Steppers
Hard Disk Drive (HDD)
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Manometer type:
Chamber A & B: MKS 122B 11441
Chamber D: MKS 127
RF Matching box type:
Chamber A & B: 0010-09750D DR
Chamber D: 0010-09416
Turbo pump type:
Chamber D: LEYBOLD NT340M
System electronic type:
(2) TC Gauges
Buffer I/O
AI MUX
(2) OPTO
(4) Choppers
+12VPS
+15VPS
-15VPS
Storage elevator: 8 Slots
Cassette handler: Phase III, Top clamp
Robot: Phase III
Blade: Phase III
I/O Wafer sensor
Load lock purge
Heat exchanger:
AMAT0:
Connect to chamber A, B & D: Wall / LID
Main frame front type: Through-the-wall
Standard remote frame
TC Gauge type:
Chamber-A Rough: VCR
Chamber-B Rough: VCR
Chamber-D Rough: VCR
L/L Rough: VCR
L/L Chamber: VCR
Lamp module type:
Chamber A & B: STD 0010-09337
Mini-con
Magnet driver type:
Chamber A & B: P/N 0015-09091
Chamber D: P/N: 0015-70060
Signal tower
Gas panel type: (28) Gases
MFC Type (Main):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calibration gas / Maker / Model
B / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
A / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
D / O2/ 100 / N2 / STEC / SEC-4400
D / CF4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
D / AR / 100 / N2 / STEC / SEC-4400
MFC Type (Remote):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calibration gas / Maker / Model
A / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 3000 / N3 / STEC / SEC-4400
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein vollwertiges automatisiertes Bearbeitungswerkzeug für die Herstellung von hochvolumigen Halbleitern. Es ist präzise für überlegene Leistung entwickelt und bietet eine Reihe von Prozessrezepten und konfigurierbare Fähigkeiten für maximale Vielseitigkeit. AMAT P-5000 bietet eine leistungsstarke Verarbeitungskammer, die eine große Menge an Substraten mit höherem Durchsatz verarbeiten kann. Es verfügt über eine Fünf-Zonen-Kassetten-Art Ladeschloss und Substrat-Transfer-Ausrüstung, die stabile thermische Zyklen und wiederholbare Prozessbedingungen gewährleistet. Das System bietet auch digitale und analoge Lastsperrsensoren zur Überwachung von Temperatur, Druck und anderen Umgebungsparametern. Der Reaktor verfügt über eine erweiterte Automatisierungsplattform, die integrierte DataBoss und Primus Software zur Vereinfachung der Programmierung und des Gerätemanagements bietet. DataBoss Explorer-Software bietet erweiterte Optik und ergonomische Funktionen, um Rezepte schnell zu konfigurieren und Prozessergebnisse zu optimieren. Primus-Software ermöglicht es Benutzern, Rezepte voreinzustellen und auf mehrere Prozesscontroller zuzugreifen, um den Rezeptverlauf und den Substratdurchsatz zu optimieren. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 ist mit einer Suite 200 Ultra-Hochvakuum-Cluster-Station ausgestattet, die schnelle Zykluszeiten und ausgezeichnete Steuergenauigkeit bietet. Das Gerät ist auch mit einem VacGenEx Dual-Gun, Single-Liner-Abscheidefähigkeit, die überlegene Abscheidungsqualität und Durchsatz bietet. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 verfügt über eine breite Palette von Plasmatechnologien, darunter induktiv gekoppeltes Plasma (ICP), Hochfrequenz (RF) -Bias, Mikrowellenplasma und Plasma aus der Ferne. Alle diese Plasmatechnologien wurden entwickelt, um die Prozessflexibilität und Ausbeute zu erhöhen. Die Maschine verfügt auch über integrierte Heiz- und Kühlfunktionen für eine präzise Temperaturregelung. APPLIED MATERIALS P5000 kann Prozessgase für maximale Wartungskosten entleeren und unterstützt bis zu acht Reaktoren für verbesserte Durchsatzleistungen. Es ist kompatibel mit einer Vielzahl von Substraten und Substrattypen, einschließlich kristallinem Silizium, GaAs und Glas. AMAT P5000 ist mit integrierten Sicherheitsfunktionen ausgestattet, einschließlich Argon-Gasdrucküberwachung, Trägheitssensoren und antistatischen Erdungssystemen. Darüber hinaus verfügt es über erweiterte Berichts- und Analysefunktionen, mit denen Benutzer Daten schnell analysieren und Leistungstrends identifizieren können, die sich auf die Geräteerträge auswirken können.
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