Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9226169 zu verkaufen
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ID: 9226169
Wafergröße: 6"
PECVD System, 6"
Deposition for SiO2 and SiN thin films.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist ein spezialisiertes Werkzeug zur Herstellung von Hochleistungs-Halbleiterchips. Es besteht aus einer Prozesskammer, die fortschrittliche Materialien und Technologien verwendet, um High-End-Ergebnisse zu erzielen. AMAT P-5000 wird von einer computergesteuerten Ausrüstung angetrieben und verfügt über ein präzises Wärmemanagementsystem sowie eine präzise Steuerung von Gasfluss und -zufuhr. Darüber hinaus verfügt der Reaktor über eine Vakuumkammer, die unter hohen Temperaturen betrieben werden kann und ein hochpräzises Ätzen von Wafern ermöglicht. APPLIED MATERIALS P 5000 verwendet eine Reihe modernster Technologien und Engineering-Methoden, um die Effizienz und den Durchsatz des Geräts zu erhöhen. Es verfügt über eine fortschrittliche Prozesssteuereinheit, die zur Überwachung und Steuerung der verschiedenen Stufen des Chipherstellungsprozesses ausgelegt ist. Darüber hinaus verfügt das Gerät über modernste Sicherheitssysteme, einschließlich Luft- und Gasströmungsüberwachung, Temperaturüberwachung und Drucküberwachung, um sicherzustellen, dass das Gerät sicher und effizient arbeitet. P-5000 wurde auch mit einer Reihe von Funktionen konzipiert, die den Benutzern konsistente Ergebnisse liefern. Die Vorrichtung weist beispielsweise ein Herstellungsverfahren für Silicon-On-Insulator (SOI) auf, um zu verhindern, dass Ionen beim Ätzen in der Oxidschicht des Chips abgeschieden werden. Dadurch wird sichergestellt, dass die Späne glatt sind und ein gleichmäßiges Profil aufweisen. Darüber hinaus verfügt AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 über eine Wafer-Handhabungsmaschine zur Vermeidung von Verschmutzungen zwischen Wafern und zur Verkürzung der Zeit für den Transfer von Spänen zum und vom Reaktor. AMAT P 5000 ist ein hochwertiges, leistungsstarkes und vielseitiges Gerät, mit dem sich hervorragende Ergebnisse in der Chipherstellung erzielen lassen. Es wurde entwickelt, um mehr Genauigkeit und Durchsatz zu liefern, so dass Benutzer Chips schneller, effizienter und kostengünstiger produzieren können. Darüber hinaus soll die Vorrichtung sicherstellen, dass der Prozess sicher und zuverlässig funktioniert und die Ergebnisse konsistent und zuverlässig sind.
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