Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9236898 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor ist eine weit verbreitete Ausrüstung, die im Bereich der Halbleiterherstellung verwendet wird und weithin als einer der technologisch fortschrittlichsten und vielseitigsten verfügbaren Reaktoren anerkannt ist. Dieser Reaktor ist eine perfekte Version der renommierten CVD-Reaktoren (Chemical Vapor Deposition), die in Halbleiterlabors eingesetzt werden. AMAT P-5000 Reactor ist bekannt für seine Geschwindigkeit, sein innovatives Design, seine Flexibilität und seine Fähigkeit, mit der steigenden Nachfrage der Halbleiterhersteller Schritt zu halten. Dieser Reaktor besteht aus zwei unterschiedlichen Kammern, dem PECVD und den PVD-Kammern, die gleichzeitig in situ arbeiten. Die PECVD-Kammer ist für die Bildung dünner Filme ausgelegt, während die PVD-Kammer für Abscheide- oder Ätzprozesse verwendet wird. Darüber hinaus weist dieser Reaktor mehrere Merkmale auf, um ihn zu einer überlegenen Wahl für Halbleiterherstellungsprozesse zu machen. Dieser Reaktor verfügt über eine Reihe von Modifikationen für eine Vielzahl von Anforderungen, darunter automatisierte Rezeptsteuerungen, Dual-Prozess-Wafer und ein automatisiertes Wafer-Mapping-System. Darüber hinaus ist der APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor mit einem fortschrittlichen Heizungsdesign sowie einer verbesserten Mehrstationen-Plasmaquelle ausgestattet, die Prozessgleichförmigkeit und überlegene Wiederholbarkeit gewährleistet und gleichzeitig die Wafertemperaturschwankungen deutlich reduziert. Darüber hinaus ist dieser Reaktor vollständig kompatibel mit einer Vielzahl von voraufgebrachten Kühlmittelsystemen und seine einzigartigen prozessspezifischen einziehbaren Düsen ermöglichen einen maximalen Durchsatz. Darüber hinaus verwenden die fortschrittlichen Kammern extrem präzise Temperaturregelungssysteme, um eine optimale Leistung zu gewährleisten. Darüber hinaus nutzt P5000 Reactor seine Funktionen zur Prozessüberwachung und -optimierung, um maximale Ausbeute und Produktivität zu gewährleisten. Darüber hinaus ist der Reaktor mit einer branchenführenden Vakuumeinheit ausgestattet, die den Anwendern äußerst saubere und sehr reproduzierbare Einstellungen auf sehr sichere und effiziente Weise ermöglicht. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor aufgrund seiner enormen Vielseitigkeit, Flexibilität und fortschrittlichen technologischen Eigenschaften eine bevorzugte Wahl unter den Halbleiterherstellern. Dieser Reaktor wird garantiert Ausbeute, Produktivität und Prozessreproduzierbarkeit maximieren und gleichzeitig eine sehr sichere Arbeitsumgebung bieten. Als solche ist diese Maschine ideal für die Prozesse jedes Halbleiterherstellers und wird sicherlich helfen, reibungslose und erfolgreiche Operationen zu ermöglichen.