Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9236969 zu verkaufen

ID: 9236969
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
PECVD System, 8" Process: Passivation Chamber type: DLH CIM Linked Main frame Load lock SMIF System: ASYST ARM-2200 V111S Handler system: Robot assembly Process chamber: (3) CVD Deposition chambers A, B & C (3) Primary generators (3) RF2 Generators & matches (4) Ebara pumps Heat exchanger Mini SBC board SBC Board SEI Board (2) AI Boards (2) AO Boards VGA Board (4) Stepper driver boards (2) Digital I/O boards Buffer I/O board (2) Optical sensor boards (4) Chopper driver boards (3) Baratrons LAMDA Power supply Hard Disk Drive (HDD) Wiring distribution board Pneumatic board Loader interconnect board (2) TC Gauge boards +12V DC Power supply +15V DC Power supply -15V DC Power supply AI MUX Board (3) RF Generators Controller distribution board Encoder interface board System electronic back plane Robot blade assembly Facility: A10S Loadlock pump A70W Process pump Incoming power: 208 VAC Heat exchanger temperature set point: 65 Buffer: LPT / Indexer: ARM-2200 H112S Center finder Storage elevator: (8) Slots LL Robot type: Metal Load lock actuator: IO Door Chamber actuator: 0010-70162 CDA Pressure for buffer: 60 psi Process chamber: RF 1 Generator: ENI OEM-12B RF 2 Generator: RFPP 7520572050 RF Match: AMAT / APPLIED MATERIALS Automatch 0010-09750 Pressure manometer: MKS 10T (122BA-001000EB-S) Throttle valve / PCV Model: VEXTA PX245-02AA-C4 TC Part number: 3310-01074 Chuck type: P-Chuck Chuck part number: 0010-38437 Process temperature: 400°C MFC Gases: C2F6: 10 SLM SIH4: 3000scc NH3: 300scc N2: 10 SLM N20: 3000 SCC N20 (G): 200 SCCM PH3: 300 SCC DPA Included Endpoint: 0190-09472 CDA Pressure for chamber: 60 psi 1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Reaktor, der zur Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Es verwendet fortschrittliche Technologie, um eine präzise thermische Kontrolle und eine Plattform für die chemische Dampfabscheidung (CVD) bereitzustellen. Der Reaktor ist so konzipiert, dass er gleichmäßige Temperaturen gewährleistet und die Ungleichmäßigkeit während des gesamten Wachstums des Materials oder der Vorrichtung verringert. AMAT P-5000 ist ein Einzelwaferreaktor, der drei Schlüsselmerkmale umfasst: Einheitlichkeit, Temperaturregelung und Substratflexibilität. Der Reaktor besteht aus mehreren Komponenten: einer Quarzkammer, einer Suszeptorhalterung, einer Steuereinrichtung, einem Heizelement und einem Kühlsystem. Die Quarzkammer ermöglicht die Oxidation oder Abscheidung einer Folie auf dem Substrat unter kontrollierten Bedingungen. Die Suszeptor-Halterung hält den Wafer während der Verarbeitung und ist für eine gleichmäßige Temperaturverteilung ausgelegt. Das Steuergerät ermöglicht eine präzise Temperaturregelung und eine Plattform für CVD. Das Heizelement ist für eine gleichmäßige Temperatur durch den gesamten Wafer ausgelegt. Die Kühlmaschine wird verwendet, um die Substrattemperatur zu senken und Prozessstabilität zu ermöglichen. ANWENDUNGSMATERIALIEN P 5000 Reaktor hat eine breite Palette von Vorteilen, wie verbesserte Leistung, hohe Wiederholbarkeit, erhöhter Durchsatz und verbesserte Ausbeuten. Es ist auch in der Lage, Geräte bei hohen Temperaturen mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit zu produzieren. Darüber hinaus ist P5000 Reaktor ideal für die Waferbindung, da er eine sehr gleichmäßige Temperatur und eine höhere Präzision bei der Handhabung der Bindungen gewährleistet. Abschließend ist AMAT P5000 Reaktor ein wesentlicher Bestandteil des Halbleiterherstellungsprozesses. Seine Fähigkeit, gleichmäßige Temperaturen bereitzustellen und Ungleichmäßigkeit während des gesamten Wachstums des Materials oder der Vorrichtung zu verringern, macht es äußerst nützlich und kostengünstig. Mit fortschreitender Technologie wird erwartet, dass der P 5000-Reaktor bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen noch fortschrittlicher und effizienter wird.
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