Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9236969 zu verkaufen
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ID: 9236969
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
PECVD System, 8"
Process: Passivation
Chamber type: DLH
CIM Linked
Main frame
Load lock
SMIF System: ASYST ARM-2200 V111S
Handler system: Robot assembly
Process chamber:
(3) CVD Deposition chambers A, B & C
(3) Primary generators
(3) RF2 Generators & matches
(4) Ebara pumps
Heat exchanger
Mini SBC board
SBC Board
SEI Board
(2) AI Boards
(2) AO Boards
VGA Board
(4) Stepper driver boards
(2) Digital I/O boards
Buffer I/O board
(2) Optical sensor boards
(4) Chopper driver boards
(3) Baratrons
LAMDA Power supply
Hard Disk Drive (HDD)
Wiring distribution board
Pneumatic board
Loader interconnect board
(2) TC Gauge boards
+12V DC Power supply
+15V DC Power supply
-15V DC Power supply
AI MUX Board
(3) RF Generators
Controller distribution board
Encoder interface board
System electronic back plane
Robot blade assembly
Facility:
A10S Loadlock pump
A70W Process pump
Incoming power: 208 VAC
Heat exchanger temperature set point: 65
Buffer:
LPT / Indexer: ARM-2200 H112S
Center finder
Storage elevator: (8) Slots
LL Robot type: Metal
Load lock actuator: IO Door
Chamber actuator: 0010-70162
CDA Pressure for buffer: 60 psi
Process chamber:
RF 1 Generator: ENI OEM-12B
RF 2 Generator: RFPP 7520572050
RF Match: AMAT / APPLIED MATERIALS Automatch 0010-09750
Pressure manometer: MKS 10T (122BA-001000EB-S)
Throttle valve / PCV Model: VEXTA PX245-02AA-C4
TC Part number: 3310-01074
Chuck type: P-Chuck
Chuck part number: 0010-38437
Process temperature: 400°C
MFC Gases:
C2F6: 10 SLM
SIH4: 3000scc
NH3: 300scc
N2: 10 SLM
N20: 3000 SCC
N20 (G): 200 SCCM
PH3: 300 SCC
DPA Included
Endpoint: 0190-09472
CDA Pressure for chamber: 60 psi
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Reaktor, der zur Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Es verwendet fortschrittliche Technologie, um eine präzise thermische Kontrolle und eine Plattform für die chemische Dampfabscheidung (CVD) bereitzustellen. Der Reaktor ist so konzipiert, dass er gleichmäßige Temperaturen gewährleistet und die Ungleichmäßigkeit während des gesamten Wachstums des Materials oder der Vorrichtung verringert. AMAT P-5000 ist ein Einzelwaferreaktor, der drei Schlüsselmerkmale umfasst: Einheitlichkeit, Temperaturregelung und Substratflexibilität. Der Reaktor besteht aus mehreren Komponenten: einer Quarzkammer, einer Suszeptorhalterung, einer Steuereinrichtung, einem Heizelement und einem Kühlsystem. Die Quarzkammer ermöglicht die Oxidation oder Abscheidung einer Folie auf dem Substrat unter kontrollierten Bedingungen. Die Suszeptor-Halterung hält den Wafer während der Verarbeitung und ist für eine gleichmäßige Temperaturverteilung ausgelegt. Das Steuergerät ermöglicht eine präzise Temperaturregelung und eine Plattform für CVD. Das Heizelement ist für eine gleichmäßige Temperatur durch den gesamten Wafer ausgelegt. Die Kühlmaschine wird verwendet, um die Substrattemperatur zu senken und Prozessstabilität zu ermöglichen. ANWENDUNGSMATERIALIEN P 5000 Reaktor hat eine breite Palette von Vorteilen, wie verbesserte Leistung, hohe Wiederholbarkeit, erhöhter Durchsatz und verbesserte Ausbeuten. Es ist auch in der Lage, Geräte bei hohen Temperaturen mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit zu produzieren. Darüber hinaus ist P5000 Reaktor ideal für die Waferbindung, da er eine sehr gleichmäßige Temperatur und eine höhere Präzision bei der Handhabung der Bindungen gewährleistet. Abschließend ist AMAT P5000 Reaktor ein wesentlicher Bestandteil des Halbleiterherstellungsprozesses. Seine Fähigkeit, gleichmäßige Temperaturen bereitzustellen und Ungleichmäßigkeit während des gesamten Wachstums des Materials oder der Vorrichtung zu verringern, macht es äußerst nützlich und kostengünstig. Mit fortschreitender Technologie wird erwartet, dass der P 5000-Reaktor bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen noch fortschrittlicher und effizienter wird.
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