Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9238731 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist eine leistungsstarke Endbenutzerplattform zur Herstellung fortschrittlicher Halbleitermaterialien, einschließlich ein- und zweidimensionaler Stacks, strapazierter Siliziumschichten, Metallgates und anderer fortschrittlicher Bauelementschichten. Es ist eine All-in-One-Plattform für die Halbleiterherstellung, die Kunden kostengünstige und effiziente Lösungen für die Herstellung komplexer Bauelementstrukturen bietet. Hinsichtlich der technischen Spezifikationen ist AMAT P-5000 ein Hochtemperatur-Chargenreaktor auf Plasmabasis. Es ist mit einem erweiterten Controller-Board ausgestattet, das eine diskrete Abstimmung ermöglicht und eine geschlossene Prozessfähigkeit bietet, um die qualitativ hochwertigste Schichtbildung während der Abscheidung zu gewährleisten. Dieser Controller umfasst eine erweiterte Benutzeroberfläche, die den Betreibern die notwendigen Tools zur Verfügung stellt, um Prozessparameter schnell und genau an bestimmte Geräteanforderungen anzupassen. Im Zentrum von APPLIED MATERIALS P 5000 steht eine Heißfilamentquellen-Plasmaquelle, die eine effiziente, kostengünstige Abscheidung von Metallschichten bis zu 9200 Angström ermöglicht. Die Heißfilamentquelle kann Temperaturen bis 1000 ° C erzeugen und kann sowohl einkristalline als auch polykristalline Schichten herstellen. Darüber hinaus ermöglicht die In-situ-Funktion eine sofortige Feinabstimmung und Eliminierung von Nukleationsstellen von der Waferoberfläche. AMAT P5000 verfügt zudem über eine reinraumkompatible „Luftvorhang“ -Ausrüstung, um eine nahezu partikelfreie Umgebung für die Produktion zu gewährleisten. Der Luftvorhang verfügt über ein mehrstufiges Filtersystem, das dazu dient, Verschmutzungen zu reduzieren und Partikeleinschläge in der Luft zu minimieren. Diese Einheit trägt auch dazu bei, die Partikelbelastung in der Verarbeitungskammer zu reduzieren, da sie das Eindringen von Partikeln in die Prozessumgebung verhindert. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 ist zudem mit einer hochrangigen Diagnosemaschine ausgestattet, die es dem Bediener ermöglicht, Fehler im Abscheideprozess genau zu überwachen und zu erkennen. Dieses Tool enthält erweiterte Softwareprogramme, mit denen Benutzer den Ablagerungsprozess schnell und einfach einstellen und verwalten können. Darüber hinaus umfasst P-5000 eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen und innovative Konstruktionsverbesserungen wie thermische Absperrventile, interne Dichtungen und Drucksensoren, um ein Höchstmaß an Sicherheit und Protokoll zu gewährleisten. Abschließend ist P 5000 ein leistungsfähiger, zuverlässiger und hocheffizienter Reaktor, der speziell für die Anforderungen der modernen Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Das fortschrittliche Controller-Board und die reinraumkompatiblen Luftvorhänge sorgen für eine nahezu partikelfreie Umgebung mit genauen, wiederholbaren Prozesszuständen, die schnell und genau überwacht und abgestimmt werden können. AMAT P 5000 ist eine ausgezeichnete Wahl für diejenigen, die komplexe Gerätestrukturen kostengünstig und effizient herstellen möchten.