Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9243884 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein fortschrittlicher Ätzreaktor, der eine extrem hohe Ätzleistung für Halbleiterherstellungsprozesse bietet. AMAT P-5000 arbeitet bei Temperaturen zwischen -25 ° C und 500 ° C und verfügt über eine fortschrittliche, hocheffiziente Plasmaquelle für verbesserte Ätzraten und verbesserte Ätzgleichmäßigkeit. APPLIKATIONSMATERIALIEN P 5000 verwendet eine Doppelkammerdesign, bestehend aus einer oberen und unteren Kammer, die leicht für verschiedene Ätzprozesse rekonfiguriert werden kann. Die obere Kammer enthält die Plasmaquelle, während die untere Kammer die Ätzgas- und Vakuumkomponenten aufnimmt. Durch den modularen Aufbau lassen sich AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Geräte einfach auf spezifische Prozessanforderungen abstimmen. Die fortschrittliche Plasmaquelle von AMAT P5000 nutzt einen Hochleistungs-HF-Generator und ein robustes Magnetron, um ein intensives Ätzplasma innerhalb der Verarbeitungskammer zu erzeugen. Das Plasma wird mit hoher Dichte (bis zu 3 Watts/cm2) hergestellt und dient zum Abätzen von Materialien mit Präzisionsgenauigkeit, ohne die Integrität der umgebenden Schaltungen zu beeinträchtigen. P 5000 verfügt auch über ein patentiertes, Dual-Ionisator-Design für verbesserte Prozessausbeuten. Das Dual-Ionisator-System verwendet zwei separate Hochfrequenz-HF-Generatoren, um eine leistungsstarke und gleichmäßige Ionenenergieverteilung in der gesamten Verarbeitungskammer zu erzeugen, die eine verbesserte Ätzgleichförmigkeit ermöglicht. APPLIED MATERIALS P-5000 wurde entwickelt, um mehrere Wafergrößen und Substratmaterialien zu betreiben, einschließlich geringer thermischer Budgetvorrichtungen. Für höchste Sicherheit und Komfort verfügt das Gerät über eine integrierte Temperaturwartungsmaschine, eine automatische HF-Leistungsregelung und eine zuverlässige hocheffiziente Trockenpumpe. Für maximale Flexibilität ist APPLIED MATERIALS P5000 mit einer breiten Palette an Zubehör wie HF-Matchnetzwerken, Abgaspumpen, Kabelsätzen und Steuerpaketen erhältlich. Das Tool ist auch kompatibel mit mehreren Überwachungs- und Steuerungssystemen, einschließlich AMAT Pro E-200 Controller. AMAT / APPLIED MATERIALS P 5000 ist ein fortgeschrittener ätzen Reaktor, der Halbleiterherstellern hilft, Materialien mit der Präzisionsgenauigkeit in in einer Prozession gehenden Geschwindigkeiten „extreme hohe Rate“ zu ätzen. Die Anlage nutzt ein Doppelkammerdesign und ein hocheffizientes Magnetron, um ein leistungsstarkes, gleichmäßiges Plasma innerhalb der Kammer zu erzeugen. P5000 ist mit mehreren Wafer- und Substratgrößen kompatibel und bietet dem Anwender maximale Flexibilität mit einer breiten Palette an Zubehör und Steuerungssystemen.