Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9248920 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist ein Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor für epitaktisches Wachstum von elektronischen und optoelektronischen Anwendungen. Es bietet Hochgeschwindigkeitsabscheidung von hochwertigen epitaktischen Schichten aus mehreren Materialien auf einer breiten Palette von Substraten. Der Reaktor verfügt über eine 150mm parallele Plattenausrüstung, die auf andere Größen skalierbar ist. AMAT P-5000 Reaktor weist vier verschiedene Prozeßplasmen auf: induktiv gekoppeltes Plasma (ICP), Gleichstrom (DC) oder gepulste Gleichstromquelle (PDC). Es ist in der Lage, Plasmen in einem Bereich zwischen 10-100 Millitorr zu halten. Es wurde für niederleistungsfähige, hocheffiziente Prozesse optimiert und bietet eine breite Palette von Prozessdrücken und Abscheideraten für Hochleistungsepitaxie. ANGEWANDTES MATERIAL P 5000 System umfasst erweiterte Gasliefermodule und eine flexible Interreaktorkammer. Die Einheit ist auch mit einer Vielzahl von Diagnosewerkzeugen wie Echtzeit-Kammerdrucküberwachung ausgestattet; Überwachung der In-situ- und Echtzeit-Abscheidungsrate; variable Quellenleistung; Substrattemperaturregelung mit Kühlfähigkeit; automatisierte Endpunktdetektion; und integrierte Mehrwellenlängenspektroskopie. Alle Diagnosetools sind so konzipiert, dass die Prozesszeit durch die Optimierung des Prozesses auf Basis einer Echtzeitsteuerung reduziert wird. AMAT P 5000 Maschine bietet auch hervorragende Temperatur Gleichmäßigkeitsprofil über den Substratbereich. Dies ermöglicht eine homogene Dünnschichtabscheidung und bessere Ausbeuten. Der Reaktor ist für den Einsatz mit ammoniakbasierten Verfahren sowie anderen Chemikalien optimiert. Das Tool ist für einfache Bedienung und hohe Durchsatzleistung ausgelegt. Es ist einfach einzurichten und zu kalibrieren, mit automatisierten Diagnosen und Rezepten, mit denen Benutzer schnell Prozesse und einstellbare Parameter auswählen können. P5000 Asset ist für die Kompatibilität mit modellbasierter Steuerungssoftware und Datenvisualisierungssoftware eingerichtet. Abschließend ist AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor ein fortschrittliches PECVD-Modell, das für leistungsschwache, hocheffiziente Prozesse optimiert wurde. Es eignet sich für verschiedene Anwendungen, alle mit der Sicherheit der hochwertigen Dünnschichtabscheidung, Gleichmäßigkeit und Zuverlässigkeit. Es ist auch einfach einzurichten und zu kalibrieren, zusammen mit anderen erweiterten Programmieroptionen für maximale Präzision.