Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9249468 zu verkaufen

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ID: 9249468
CVD System, 6" Install type: DLH Wafer shape: Lamp heated EMO Type: Turn to release Gas panel: (3) Chambers Clean system: RF Clean AC Rack Generator rack Monitor rack Heat exchanger (3) Chamber type: Chamber A: DLH SA Chamber Chamber B: DLH SA Chamber Chamber D: DLH SA Chamber Loadlock: 8 Slots Cassette, 6" Vent type: Variable speed Mainframe: Buffer robot type: P5000 Buffer robot blade: Blade Status light tower Remote monitor: Table mount Sub-system: AMAT-0 Chiller (3) ADTEC AX-1000AM II RF Generators Electrical configuration: Line voltage: 208 V Full load current: 180 A Frequency: 50/60 Hz CE Marked 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist eine thermische Verarbeitungskammer, die speziell entwickelt wurde, um einheitliche und wiederholbare Verarbeitungsergebnisse zu liefern. Dieser Reaktor ist eine ideale Lösung für eine Vielzahl von vakuumbasierten Prozessen, die eine homogene Temperatur- und Atmosphärenregelung erfordern. AMAT P-5000 ist mit einem fortschrittlichen Doppelkammerdesign ausgestattet und verfügt über zwei separate Fächer, die gleichzeitig verwendet werden können. Die integrierte Wafer-Transportausrüstung ermöglicht eine einfache Manipulation und kontrollierte Bewegung verschiedener Probengrößen. Das System umfasst auch zwei Hauptregler - die Hauptsteuerung und die Lastschloßsteuerung -, die in verschiedenen Konfigurationen verwendet werden können. Das Gerät APPLIED MATERIALS P 5000 bietet eine Reihe dynamischer Steuerungsfunktionen, mit denen Anwender ihre Prozesse genau abstimmen können, um die gewünschten Leistungsergebnisse zu erzielen. Angetrieben wird die Maschine durch ein selbstspülendes Dünnfilm-Ringheizelement, das gleichmäßig verteilte Temperaturen zwischen 10 ° C und 800 ° C gewährleistet. Zusätzlich ist das Werkzeug mit einer leistungsstarken Luftkryopumpe ausgestattet, die einen schnellen Vakuumbetrieb gewährleistet. Darüber hinaus sorgt ein robustes wassergekühltes Gebläse für eine vollständig geschlossene und verzerrungsfreie Verarbeitung und liefert hochpräzise Ergebnisse. Der vielseitige P-5000 Reaktor ist zudem mit einem verstellbaren Hochleistungsdeckel ausgestattet, der einen einfachen Zugang zu Probenkarussells ermöglicht. Der Deckel hält vier verschiedene Karussells innerhalb der Zwei-Kammer-Konfiguration und bietet ausreichend Probenkapazität. Erweiterte Flexibilität ermöglicht es Benutzern, eine breite Palette von Wafergrößen und -formen zu installieren, einschließlich rund, quadratisch und rechteckig. P5000 Reaktor ist mit mehreren Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, was im Umgang mit Gefahrstoffen von entscheidender Bedeutung ist. Die industrielle Kammerdichtung bietet kritischen Schutz vor chemischer Exposition und möglichen Unfällen, während das integrierte Not-Aus-Modell einen Verlust der Betriebskontrolle verhindert. P 5000 verfügt auch über mehrere softwaregesteuerte Funktionen, einschließlich erweiterter Datenlogging-Funktionen und Ethernet-Konnektivität. Dieses Gerät bietet einfachen und sicheren Online-Zugriff auf Datenexport und -import und ermöglicht eine erweiterte Integration in bestehende Werksnetzwerke für eine vereinfachte Prozessüberwachung, automatisierte Datenerfassung und mehr. Insgesamt ist AMAT P5000 eine fortschrittliche thermische Verarbeitungskammer, die speziell entwickelt wurde, um fortschrittliche Gleichmäßigkeit, Wiederholbarkeit, Flexibilität und Sicherheit während einer Vielzahl von hochpräzisen Vakuumprozessen zu bieten.
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