Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9252545 zu verkaufen

AMAT Inc. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist ein CVD-Werkzeug (Chemical Vapor Deposition), mit dem dünne Filme aus verschiedenen flüchtigen Vorstufen in der Halbleiterindustrie abgeschieden werden. Die Konstruktion basiert auf einer horizontal gestalteten, auf einem Wafer basierenden Bearbeitungskammer, die ausreichend Umgebungstemperatur und Druck bereitstellt, um eine gleichmäßige Foliendicke unter Beibehaltung der gesamten Prozesssteuerung und Flexibilität zu erhalten. Die Anlage nutzt eine warmwandgerichtete Strömungskammer, die im Bereich von 150 - 600 ° C beheizt wird. Der Innendruck wird gering gehalten, was eine effiziente thermische Steuerung des Prozesses ermöglicht. Dieser reduzierte Druck trägt auch dazu bei, Kontaminationen in einer kontrollierten Abscheidungsumgebung zu minimieren. Die Kammer ist mit einem Trägergas aus Argon oder Stickstoff gefüllt, mit dem die flüchtigen Vorstufen, wie Silane und Nitride, zur Substratoberfläche transportiert werden. Um ein gleichmäßiges Filmwachstum auf der Waferoberfläche zu gewährleisten, ist die Kammer mit einem automatisierten Verteilungs- und Mischsystem ausgestattet, das die Verteilung der Reaktanden und den Gesamtstrom steuert. Die AMAT P-5000 Einheit umfasst eine Vielzahl von Prozessüberwachungstools und -diagnosen. Es steht eine Mehrkanalmaschine zur Verfügung, mit der mehrere Parameter wie Abscheiderate und Filmdicke in situ abgelesen werden können. Ein integriertes optisches Emissionsspektroskopie (OES) -Werkzeug kann außerbörsliche Kontaminationen erkennen und ermöglicht eine schnelle Reaktion und Optimierung des Abscheidungsprozesses. Zusätzlich kann der Reaktor mit einer Post-CVD-Ätzanlage kombiniert werden, um das Ätzen komplexer Strukturen, wie sie in fortgeschrittenen CMOS- und MEMS-Anwendungen verwendet werden, unter Beibehaltung des gesamten Prozesses in der sicheren und Verträglichkeit der Warmwandkammer zu ermöglichen. Zusammenfassend stellt die Ausführungsform APPLIED MATERIALS P 5000 eines der vollständigsten und fortschrittlichsten CVD-Systeme dar, das eine überlegene Kontrolle der Abscheidungsparameter, der Prozessüberwachung und der Diagnose ermöglicht. Das Modell bietet überlegene Foliengleichmäßigkeit, Qualität und Verträglichkeit mit ausgeklügelten Abscheidungsprozessen wie metallischer organischer chemischer Dampfabscheidung (MOCVD) und Niederdruck-chemischer Dampfabscheidung (LPCVD).