Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9255616 zu verkaufen

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ID: 9255616
System, 6" (2) CVD Chambers (2) Etch chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Reaktor für die Verarbeitung flüssiger Materialien in einer Hochtemperaturumgebung. Es wird häufig verwendet, um dünne Filme aus verschiedenen Materialien wie Metall, diamantähnlichen Kohlenstoff und Bor abzuscheiden. Sie eignet sich besonders zur Prozesssteuerung in Anwendungen der chemischen Dampfabscheidung (CVD). AMAT P-5000 ist ein vertikal belasteter, thermisch-chemischer Dampfabscheidungsreaktor (CVD), der sowohl thermisch-chemische Abscheidungen als auch Kaltwandprozesse ermöglicht. Es handelt sich um eine PECVD (plasma-enhanced CVD) -Kammer, die die Fähigkeit hat, sehr dünne Schichten von Materialien auf dem Zielsubstrat abzuscheiden. Sie weist eine große, kugelförmige Kammer mit einem Prozessfenster auf, das es ermöglicht, das Targetsubstrat in kontrollierter Umgebung verschiedenen Gasen auszusetzen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 ist auch sehr zuverlässig und effizient, so dass es eine gute Wahl für CVD-Anwendungen. Der Reaktor wird von einem 30 KW RF (Radio Frequency) Generator angetrieben. Es verfügt über ein modernes, energieeffizientes Heizelement und zwei Thermoelemente zur Temperaturüberwachung und -regelung. Die Hauptverarbeitungskammer hat einstellbare HF-Leistungsoptionen oder zwei unterschiedliche analoge Ausgänge, um den Prozessgasdruck und die Verhältnisse zu variieren. P 5000 ist auch mit einer Reihe von benutzerfreundlichen Funktionen ausgestattet, wie einem digitalen Timer, einer manuellen Start/Stopp-Funktion und einem programmierbaren Timer. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktor kann bei Temperaturen bis 1000 ° C und Drücken bis 100 Torr arbeiten. Es ist auch mit einem Probenladesystem ausgestattet, das automatisch bis zu 8 Proben lädt. Es gibt auch einen eingebauten Positionierer, mit dem die Probe nach Prozessrezepten verschoben werden kann. P-5000 ist in der Lage, hochwertige dünne Folien mit guter Gleichmäßigkeit, hohen Abscheidungsraten, geringen Partikelemissionen und ausgezeichneten Oberflächen- und Struktureigenschaften herzustellen. Abschließend ist APPLIED MATERIALS P5000 ein leistungsfähiger und zuverlässiger CVD-Reaktor. Es ist hocheffizient und verfügt über eine einstellbare HF-Stromquelle, ein fortschrittliches Heizelement, zwei Thermoelemente, Probenladesysteme und einen programmierbaren Timer. Es ist ideal für Dünnschichtanwendungen, bietet eine optimale Dünnschichtqualität und eine hervorragende Prozesskontrolle.
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