Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9255617 zu verkaufen

ID: 9255617
System, 6" CVD Chamber Etch chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist ein High-Output-Prozesswerkzeug, das verwendet wird, um integrierte Schaltungen aus vordimensionierten Halbleiterwafern zu erstellen. Dieser Reaktor ist Teil der Produktlinie Substrates Solutions (ASL) des Unternehmens und präsentiert eine kostengünstige und leistungsstarke Ausrüstung für die Abscheidung von Materialien wie Metallen, Leiterbahnen, Dielektrikum- und Halbleiterfolien. AMAT P-5000 Reaktor ist AMAT fortschrittlichstes Prozesswerkzeug. Sein primäres Herstellerziel ist die Halbleiterindustrie, die Werkzeuge benötigt, die hohe Leistung, Durchsatz und Genauigkeit liefern können. Im Vergleich zu anderen APPLIKATIONSMATERIALIEN ist der P 5000 Reaktor auf einen höheren Durchsatz und eine verbesserte Produktivität ausgelegt. Der Reaktor kann eine Vielzahl von Prozesszeiten, Kammerdrücken und Prozesstemperaturen unterstützen. Es verfügt über eine maximale Prozessrate von bis zu 2 Mbit/s, ein integriertes Druckregelsystem und eine fortschrittliche Wärmemanagementeinheit. Das einzigartige abnehmbare Kammerdesign bietet einen einfachen Zugang zur Prozesskammer für einfache Wartung und Reinigung. Die fortschrittliche Verfahrenstechnologie des AMAT P5000 Reaktors umfasst eine verbesserte Folieneinheitlichkeit, eine ausgezeichnete Substrathaftung, reduzierte Abzugswerte und niedrigere Belastungen. Die eingebaute Messtechnik-Maschine ermöglicht die in-situ Überwachung von Abscheideparametern sowie der Prozessleistung. Dies trägt dazu bei, dass Prozesse wie vorgesehen laufen und die Produktqualität erhalten bleibt. Das Gerät unterstützt eine Vielzahl von Technologien und Prozessen, darunter ALD, CVD, PECVD, Atmosphärendruck-CVD, schnelle thermische Verarbeitung und physikalische Dampfabscheidung. Um eine optimale Leistung und Prozessstabilität zu gewährleisten, kann der Reaktor mit AMAT/APPLIED MATERIALS Sub-Ambient Processing und Sub-Ambient Temperature Control Technologie ausgestattet werden. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktor ist entworfen, um die strengen Anforderungen der Halbleiterindustrie zu erfüllen. Es ist mit unterbrechungsfreien Werkzeugleistungs- und Lastanschlüssen ausgestattet, die eine schnelle Produktion von Geräten mit minimalen Ausfallzeiten ermöglichen. Für zusätzliche Prozessstabilität kann die Kammer auch auf Temperaturen unter -140 ° C abgekühlt werden. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor ein fortschrittliches, anspruchsvolles Prozesswerkzeug. Es bietet eine zuverlässige, genaue und hochauflösende Lösung für die Erstellung integrierter Schaltungen aus vordimensionierten Halbleiterscheiben, was es zu einem wesentlichen Bauelement für jede Halbleiterherstellungsanlage macht.
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