Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9255618 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Mehrraum, Mehrstufenvakuumprozessausrüstung, die für Ultrahochleistungshalbleiteranwendungen wie fortgeschrittene Gerätstrukturen und das fortgeschrittene Verpacken entworfen ist. AMAT P-5000 ist ein Mehrkammersystem zur präzisen Regelung von Temperaturen und Gasen im Bereich der für diese Anwendungen erforderlichen Vakuumprozessschritte. Es verfügt über eine Acht-Kammer-Ausführung mit Hauptkammer, Schildkammer und Prozesskammer und vier Vorreinigungskammern. Die Hauptkammer weist eine Grundplatte mit vorinstallierten reaktiven Prozessrohren auf, während die Abschirmkammer mit einem Höhertemperaturofen ausgestattet ist, um einen zusätzlichen Wärmeschutz während des Prozesses zu gewährleisten. Die Prozesskammer enthält drei Abscheideeinrichtungen: eine Mikrowellenquelle; eine Elektronen-Zyklotron-Resonanzquelle; und eine Driftkammerquelle. Das Gerät umfasst fortschrittliche Prozessintelligenz und integrierte Steuerungssysteme sowie verschiedene Sicherheits- und Überwachungssysteme. Die Prozess-Intelligenz-Software wird verwendet, um automatisierte Initiierungen von optimierten Prozessrezepten zu ermöglichen, während die integrierten Prozess- und Sicherheitsüberwachungssysteme dazu beitragen, maximale Effizienz und Leistung zu erhalten. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine Touchscreen-Schnittstelle, die die Überwachung und Steuerung von Leistungsstufen, Plasmaparametern, Temperaturen und anderen Anforderungen an den Prozess ermöglicht. Das Werkzeug wurde entwickelt, um entkoppelte Prozesse für die Sub-Ånm-Produktion sowie Prozesse mit hochgraben Wafern mit Eigenschaften unter 50nm zu handhaben. Es wurde entwickelt, um komplexe duale Zusammensetzung und Dual-Layer-Abscheidungskombinationen sowie sequentielle Ätz- und Abscheideschritte bei ultratiefer Temperatur ohne Rezirkulation von Prozessen über mehrere Stufen durchzuführen. Zusätzlich zu den oben genannten Funktionen verwendet APPLIED MATERIALS P 5000 mehrere innovative Technologien wie eine proprietäre HF-Quellenanregung, eine fortschrittliche Ionenstrahlquelle, erweiterte Kammergeometrie und Bewegungsoptik. Diese Technologien ermöglichen die Erzielung von hoher Geschwindigkeit und Gleichmäßigkeit der Beschichtung und Strukturierung. P-5000 bietet auch ein zweistufiges Anlagenlayout, um eine hervorragende Zugänglichkeit und Wartung zu ermöglichen. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS P-5000 eine mehrkammerige, mehrstufige Vakuumprozessanlage, die speziell für ultra-hochleistungsfähige Halbleiteranwendungen entwickelt wurde. Es verfügt über fortschrittliche Prozessintelligenz und integrierte Steuerungssysteme, verschiedene Sicherheits- und Überwachungssysteme sowie ein innovatives Dual-Level-Facility-Layout. Mit seiner fortschrittlichen Technologie ist das Modell in der Lage, erstaunliche Geschwindigkeiten und Gleichmäßigkeit für die Beschichtung und Musterung von hochentwickelten Halbleiterproduktionsanwendungen bereitzustellen.