Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9255619 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist ein hochentwickeltes in-situ Deep Reactive Ion Etching (DRIE) Werkzeug zur Herstellung sehr kleiner, komplexer Löcher und Mikrostrukturen in einer Vielzahl von Materialien. Das DRIE-Verfahren in AMAT P-5000 ist hocheffizient, bei den meisten Materialien und Prozessen sind Ätzraten von über 100 μ m/min erreichbar. Darüber hinaus ist es auch in der Lage, eine Vielzahl von nichtleitenden Materialien mit einem Minimum an Vakuumbruch zu ätzen, so dass eine breite Palette von Fertigungsmöglichkeiten und Anwendungen. APPLIED MATERIALS P 5000 verfügt über eine mit Graben gefüllte, ringförmige Entladungsquelle, was eine Verbesserung gegenüber herkömmlichen Magnetronquellen darstellt. Dadurch ergibt sich eine höhere Gleichmäßigkeit und ein für den Ätzprozeß gewünschtes homogeneres Plasma. Darüber hinaus ist APPLIED MATERIALS P-5000 eine Mehrkammereinrichtung mit einer Quarzbearbeitungskammer und einer Stützkammer, die getrennte Kammern einnimmt. Diese Trennung von Kammerfunktionen ermöglicht einen effizienteren Herstellungsprozess, da dadurch kompliziertere Prozesse und eine präzisere Ätzung erfolgen können, ohne entweder Bearbeitungs- oder Tragkammerraum einzunehmen. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 verwendet mehrstufige Suszeptor-Technologie, die eine präzise Kontrolle sowohl der Ätz- als auch der Substratumgebung in Echtzeit gewährleistet und gleichzeitig Schäden am Substrat durch thermische Verarbeitung beseitigt. Außerdem ermöglicht das All-Metal Substrate Befestigungssystem eine präzise und effiziente Positionierung des Substrats, was zu höheren Erträgen und einer besseren Ätzauflösung führt. Darüber hinaus sorgt die geschlossene Kühl-/Heizeinheit in P-5000 für Temperaturkonsistenz während des gesamten Ätzprozesses. P5000 ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien zu ätzen, von Metallen bis hin zu Dielektrika, einschließlich III-Vs, und ist voll automatisiert; macht P 5000 zu einem unverzichtbaren Werkzeug in der automatisierten Fertigungsumgebung. Darüber hinaus bietet das fortschrittliche Steuerschema von AMAT P5000 eine präzise Ätzratenkontrolle, die es einfach macht, Ätzraten zu ändern, ohne den Suszeptor neu positionieren zu müssen, um das Ätzaufbau zu ändern. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS P5000 ein All-in-One, hochentwickelter tiefenreaktiver Ionenätzreaktor. Die fortschrittliche ringförmige Entladungsquelle, die mehrstufige Suszeptor-Technologie und das Mehrkammerdesign machen AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 eine ideale Ätzmaschine für eine breite Palette von Materialien wie Metalle, Dielektrika und III-V 's. Die präzise Ätzratensteuerung, die effiziente Substratpositionierung und Temperaturkonsistenz sowie die automatisierten Operationen machen AMAT P 5000 zu einem unverzichtbaren Werkzeug in jeder automatisierten Fertigungsumgebung.