Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9266344 zu verkaufen

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ID: 9266344
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
System, 8" System skins: Side skins No helium cooling system RF Cable position interlock (Match box): OEM-12B RF-On indicator Mounting: Lamp mounted on remote AC box Minicontroller Heat exchangers: AMAT-0 No heat exchanger skins No chiller No H2O flow switch No EMO guard ring Mainframe: Loadlock / Cassette options: Tilt-out cassette loader Elevator type: 15-Slots No load lock lid lifter Robot Wafer position sensor Umbilicals: Remote signal cable lengths: 50 ft RF Generator coax cable length: 50 ft Smart pump interface cable length: 50 ft Leak check ports Minicontroller: 10 ft No status light tower Signal status indicator: Mainframe No manual Missing parts: SEI Board VGA Board Stepper control board (3) DI/O Boards Hard Disk Drive (HDD) Chamber B: Baratron gauge (10torr) Monitor Main to AC box power cable Frequency: 50 Hz 1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Reaktor zum hochdichten Plasmaätzen und Abscheiden. Es wurde entwickelt, um präzises Plasmaätzen hoher Dichte, hohen Durchsatz und Gleichmäßigkeit der Waferbearbeitung bei sehr geringem Stromverbrauch zu liefern. Es verfügt über eine Hochdruck-Hochvakuumkammer, die eine effizientere Übertragung von Hochdichteplasma und eine bessere Gleichmäßigkeit durch erhöhten Gasfluss und bessere Elektronen-Wolken-Dichten hat. Es ist in der Lage, Plasma über einen weiten Bereich von Drücken und Temperaturen zu erzeugen, was eine präzise und Steuerung des Ätzprozesses für eine verbesserte Oberflächenqualität und höhere Ausbeuten ermöglicht. Der AMAT P-5000 Reaktor besteht aus einer Reihe von Komponenten, die eine automatisierte Gasmischanlage, eine induktiv gekoppelte Plasmaquelle, eine Ionenquelle, Ionenquellen und einen Hochspannungsgenerator umfassen. Das automatisierte Gasmischsystem ermöglicht eine präzise und genaue Kontrolle der Plasmaparameter wie Druck, Temperatur und Konzentration. Die induktiv gekoppelte Plasmaquelle liefert das hochdichte Plasma zum Ätzen, während die Ionenquellen zur Steuerung der Energie des Plasmas verwendet werden. Darüber hinaus wird der Hochspannungsgenerator verwendet, um präzise Energieniveaus für konsistente Ergebnisse zu liefern. In Bezug auf seine Architektur verfügt der Reaktor APPLIED MATERIALS P 5000 über eine Gassteuereinheit mit geschlossenem Kreislauf, die die Leistung maximiert und die Verschmutzungswerte reduziert. Es verfügt über mehrere unabhängige Massenstromregler, Temperaturstabilität, Sensorrückkopplung und geschlossene Gassteuerung, um eine genaue Gaszufuhr und ein gleichmäßiges Ätzen über eine breite Palette von Substratgrößen zu gewährleisten. P5000 Reaktor verfügt auch über mehrere Schichten der Containment-Technologie, wie eine Unterdruck-Containment-Maschine und ein Vakuum-Dichtungswerkzeug, um jede Kontamination zu minimieren. Darüber hinaus umfasst der AMAT P 5000 Reaktor eine einzigartige Materialhandhabung, die im Einklang mit dem Präzisionsätzmodell arbeitet, um präzise und wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. Insgesamt ist P 5000 ein leistungsstarker, kostengünstiger Reaktor für präzisen, präzisen Ätzprozess mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Ausbeute. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen und automatisierten Steuerungssystemen ist APPLIED MATERIALS P-5000 eine ideale Lösung für eine breite Palette fortschrittlicher Plasmaätzanwendungen mit hoher Dichte.
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