Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9267090 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Prozeßreaktor der nächsten Generation, der plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) in vollem Umfang ermöglicht, um Hochleistungs-Ätz-, Abscheide- und Glühprozesse für fortschrittliche Halbleiterbauelementgeometrien und -materialien zu ermöglichen. AMAT P-5000 nutzt die hochmoderne Dual-Source PlasmaTM Technologie, die eine eng gekoppelte, zweifrequente Quelle schafft, um eine präzise Steuerung von Plasmaparametern für maximale Prozessflexibilität und Effizienz zu ermöglichen. Angewandte Materialien P 5000 beinhaltet die neueste plasmaunterstützte Reaktionskammertechnologie, die eine verbesserte Geschwindigkeit, Gleichmäßigkeit und Kontrolle der Prozessmaterialien ermöglicht. P-5000 Ausstattung umfasst automatisierte Wafer-Handhabungsfähigkeit, ein In-situ-Endpunkt-Erkennungssystem und Gasmischfähigkeit, die kompositorische PECVD-Prozesse ermöglicht. P5000 bietet eine leistungsstarke, kostengünstige Verarbeitung mit geringem Gasverbrauch, wodurch Kunden die Betriebskosten senken und gleichzeitig die gewünschten Abscheideraten erreichen können. Es verfügt über eine integrierte, streng charakterisierte Plasmaquelle, die sowohl zu Chloriden als auch zu Fluorkohlenwasserstoffen fähig ist. Der integrierte Wafergriff mit berührungslosem Spannfutter sorgt für eine gleichmäßige Dispergierung von Reaktanden und Wafersubstraten, wodurch der p-Prozess reguliert wird. Die benutzerfreundliche Touchscreen-Oberfläche bietet eine klare Anleitung für den Gerätebetrieb, einschließlich der Konfiguration der Prozessparameter und der optimalen Steuerung des AMAT P5000 Abscheidungsprozesses. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor ist für flexiblen Betrieb und Zuverlässigkeit ausgelegt, mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen wie Vakuum- und Leckschutz, interne Druckbrechmaschine und einem überstromgeschützten HF-Generator. Es bietet auch hochpräzise Abscheidung Gleichmäßigkeit für eine Vielzahl von niedrigen dielektrischen Konstante (Low-k) Materialien, sowie Reflow von strained-SiGe. Das Tool beinhaltet eine automatische Endpunkterkennung, um die Defektivität zu reduzieren und zuverlässige Ergebnisse zu liefern, während die Gasmischanlage es Kunden ermöglicht, eine Vielzahl von Prozessgasen zu verwenden, um in situ PECVD-Prozesse optimal zu erreichen. APPLIED MATERIALS P5000 ist ein leistungsstarkes Werkzeug für fortschrittliche Halbleiteranwendungen und bietet eine leistungsstarke Abscheidung, die den hohen Anforderungen der heutigen Elektronik mit der Flexibilität und Zuverlässigkeit entspricht, um sich an zukünftige Anforderungen anzupassen.