Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9267680 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für die Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien in der Halbleiter- und Elektronikindustrie entwickelt wurde. Es handelt sich um einen einwafrigen, linear angetriebenen, induktiv gekoppelten Plasmareaktor mit einer großen Kammer und einem breiten Prozessfenster. AMAT P-5000 ist mit einem In-Situ-Prozessmonitoring, einer patentierten Bohrprüfanlage und einem fortschrittlichen Gasliefersystem für eine präzise, Echtzeit-Prozesssteuerung mit schneller Reaktionszeit konzipiert. Dies ermöglicht eine wiederholbare und zuverlässige Verarbeitung mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und hohem Durchsatz sowie eine enge Prozesssteuerung. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 hat eine Kammergröße von 375mm und kann bis zu 300mm Wafer aufnehmen. Es ist optimiert, hohe Seitenverhältnisse und 3D-Strukturen zu verarbeiten. Der patentierte lineare „X-Drive“ ermöglicht P 5000 eine 0,1 µm-Plasmasteuerung und volles Wafer-Wackeln, um die Gleichmäßigkeit auf der Waferoberfläche zu verbessern. Es ist mit einer erweiterten Lüftersteuerung ausgestattet, um die Abscheidungsgleichförmigkeit zu optimieren. Neben seiner hohen Leistung ist P-5000 Reaktor für einen langen Lebenszyklus ausgelegt und für niedrige Betriebskosten optimiert. Es ist robust gebaut mit schwingungsarmen Komponenten, hoher Isolierung und Materialien mit geringer Partikelanzahl. Die AMAT P 5000 ist zudem mit optimierten technischen Systemen für eine einfache Wartung ausgestattet, wodurch der Bedarf an kostengünstigen Serviceverträgen vermieden wird. APPLIED MATERIALS P-5000 verfügt über eine vollständig integrierte Prozesssteuerung und Diagnosemaschine zur vollständigen Integration in die Produktionslinie für die Echtzeit-Prozessüberwachung und Produktrückverfolgbarkeit. Es kann mit fast allen Arten von branchenüblichen Rezept- und Datenbanksystemen kommunizieren, einschließlich Factory Talk Production Centeral, Solectrons WATRM und Applied 's proprietärem CMP Lite. Darüber hinaus bietet es eine mehrstufige Optimierung des Produktionsprozesses zur Verbesserung der Erträge und Zykluszeiten. AMAT P5000 unterstützt eine breite Palette von Materialien, darunter Oxid, Nitrid, Metall, diamantähnlicher Kohlenstoff und organische Filme. Der Reaktor eignet sich besonders für fortgeschrittene Leiterbahnen, High-K-Speicher und Logik, MEMS und Sensoren, III-V-optoelektronische Geräte und OLED-Displays. APPLIED MATERIALS P5000 bietet auch eine hervorragende Schrittabdeckung und lange Ablagerungslebensdauer für 3D-Applikations- und Speichergeräte. P5000 ist ein fortschrittliches CVD-Tool, das sich gut für Halbleiter-, Elektronik- und Industrieprozesse eignet. Es bietet bahnbrechende Leistung mit robustem Linearantrieb, vollem Wafer-Wackeln und präziser Prozesssteuerung. Der Reaktor ist für präzise, wiederholbare Abscheidungen mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit, hohem Durchsatz und langer Lebensdauer ausgelegt.