Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9270691 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein fortschrittlicher Plasmaätzreaktor, der für die Herstellung von Hochleistungs-Nanoformen wie Transistoren, integrierten Schaltungen und optoelektronischen Bauelementen entwickelt wurde. Dieser Reaktor bietet eine optimierte Ätzrate, Gleichmäßigkeit und Selektivität bei insgesamt niedrigen Betriebskosten. AMAT P-5000 ist eine Single-Wafer-Mode-Kammer mit 40 cm Elektrodenabstand. Die Ätzkammer weist eine rotierende inerte Kathode zum gleichmäßigen Ätzen und zwei parallele Quellen auf, die getrennt für unterschiedliche Prozesse betrieben werden. APPLIKATIONSMATERIALIEN P 5000 hat auch einen eingebauten Reinigungsmechanismus, der den Partikelaufbau minimiert und Ablagerungen auf der Waferoberfläche reduziert. ANGEWANDTE MATERIALIEN P-5000 verwendet fortschrittliche Energieumwandlungs-, Plasmaanregungs- und Signalverarbeitungstechnologie, um eine hohe Ätzgleichmäßigkeit und -kontrolle zu erreichen, die schnellere Verarbeitungszeiten und eine verbesserte Geräteleistung ermöglicht. Es enthält auch eine computergesteuerte automatisierte Steuerung, die eine präzise Steuerung der Ätzparameter ermöglicht. AMAT P5000 verfügt zudem über ein integriertes Hochvakuumsystem, um schädliche Auswirkungen von Ätzprozessbedingungen zu minimieren. P-5000 wurde entwickelt, um die Geräteleistung durch geringe Leckage und Belastung zu verbessern. Der Reaktor verwendet fortgeschrittene Oxid-Ätzverfahren, um die effektive Oxiddicke zu reduzieren und Leckagen zu minimieren. Das Gerät verwendet auch patentierte RF-Anpassungsschaltungen, um ätzbedingte Spannungen zu reduzieren und die Geräteleistung zu verbessern. P5000 ermöglicht auch die thermische und spannungsregulierende Verarbeitung von Dünnschichttransistoren (TFTs). Dieses Verfahren beinhaltet den Einsatz einer externen Wärmequelle zur thermischen Aktivierung des Dünnfilms zur Verbesserung der Geräteleistung. Darüber hinaus kann P 5000 für die chemische Dampfabscheidung (CVD) von Dotierstoffen verwendet werden, was die Herstellung fortgeschrittener Geräte ermöglicht. Insgesamt ist AMAT P 5000 ein fortschrittlicher Plasmaätzreaktor, der eine hervorragende Geräteleistung und Produktivität bietet. Die Maschine ermöglicht eine präzise Abstimmung der Ätzparameter, eine automatisierte Steuerung sowie eine thermische und spannungsgesteuerte Verarbeitung, um die Herstellung fortschrittlicher Geräte zu ermöglichen.