Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9280086 zu verkaufen
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ID: 9280086
Wafergröße: 8"
Etcher, 8"
Chamber A and B: MxP Metal
Chamber D: Strip
Mark II Mainframe
29 Slots storage elevator
Helium cooling
Expanded VME
Robot: Phase III
Cassette: Phase II
AC Remote frame
Cables: Digital and analog
Emergency interlock cables
Heat exchanger: AMAT 0
RF Generators: ENI 12A and 12B
ASTEX Microwave
Options: (2) ALCATEL Dry pumps and booster pump.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein hochzuverlässiger und effizienter Halbleiterreaktor auf Plasmabasis. Es wird mit mehreren erweiterten Funktionen gebaut, um eine effiziente Leistung zu gewährleisten und die Produktivität zu maximieren. AMAT P-5000 ist ein Einkammer-Radial-Flow-Plasmareaktor, der für maximale Skalierbarkeit und Mehrzonenflexibilität ausgelegt ist. Die ursprüngliche Quellgaskonfiguration für APPLIED MATERIALS P 5000 umfasst Ar-Cl2 mit der Fähigkeit, bis zu fünf verschiedene Quellgase aus dieser einzigen Kombination zu erzeugen. Diese variable Quelle eignet sich für Anwendungen wie Polysiliziumabscheidung, Gateoxidbildung und Poly-Si-Gate-Silizidierung. Die fünf Zonen einstellbaren Prozessparameter ermöglichen eine präzise Steuerung von Ätz- und Abscheideprozessen. Unterdessen tragen die dielektrischen Wände und die mit longLife verkapselten Elektroden dazu bei, die Partikelverschmutzung zu reduzieren und die Prozessgleichförmigkeit zu erhalten. AMAT P 5000 enthält einen Plasmaquellengenerator mit der Fähigkeit, hochgleichmäßiges Plasma über einen weiten Frequenzbereich zu erzeugen. Die robusten Leistungs- und Steuerungsfunktionen des Reaktors sorgen für zuverlässige Leistungsergebnisse. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 verfügt über automatische Lade-/Entladefunktionen und bietet Platz für bis zu 16 200mm Wafer oder 13 300mm Wafer. Die Gleichmäßigkeit der Temperatur wird durch das integrierte Kühlmodul des Generators gewährleistet. Neben seinen erweiterten Funktionen verfügt AMAT P5000 auch über mehrere Sicherheitsfunktionen. Der FM O2 Monitor schaltet die Gasversorgung automatisch ab, wenn der Sauerstoffgehalt vorgegebene Grenzwerte überschreitet, um mögliche Gefahren zu vermeiden. Darüber hinaus verhindert die Luftschleuse den Kontakt zwischen dem Bediener und der Betriebsumgebung, indem sie die Kammertüren automatisch schließt, wenn sie einen unbefugten Zugriff erkennt. Insgesamt ist P-5000 Plasmareaktor eine ausgezeichnete Wahl für die Halbleiterherstellung. Es bietet überlegene Leistung, Skalierbarkeit und Sicherheit für High-End-Ätz- und Abscheidungsprozesse. Mit seinem leistungsstarken und effizienten Design ist APPLIED MATERIALS P5000 eine ideale Wahl für jede Einrichtung, die zuverlässige und kostengünstige Ergebnisse sucht.
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