Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9284522 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9284522
Weinlese: 1995
CVD System Process: Depo rate Oxide: 6000 A/min Uniformity: 5% (12) Gases: Gas no / Sccm / Gas 1 / 200 sccm / Sih4 2 / 100 sccm / NH3 3 / 3000 sccm / N2 4 / 2000 sccm / N20 5 / 2000 sccm / CF4 / SF6 7 / 200 sccm / Sih4 8 / 100 sccm / NH3 9 / 3000 sccm / N2 10 / 2000 sccm / N2O 11 / 2000 sccm / CF4 / SF6 AC Power Mainframe configuration: Mark Ⅱ, 6" I/O Wafer sensor (21) VME Slots Phase 3 Robot Phase 3 Cassette handler (8) Slots storage elevator Viton O-ring Clean gas box Pressure control system Throttle valve Isolation valve open / Close type Temp control: Lamp heated Vacuum system Chamber: EDWARDS QDP80+QMB500 Pump Load lock chamber: ADP80 Nitrogen Compressed air: CDA / N2 Exhaust Fuse: AC/DC Power box RF Power supply: 1.2 kw and 13.56 MHz Power supply: 208 V, 200 A, AC Input, 3 Phase, 5 Wires 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor ist eine hochmoderne Ausrüstung für umfassende Dünnschichtabscheidungsprozesse. AMAT P-5000 nutzt die PVD-Technologie (Physical Vapor Deposition) und eignet sich somit ideal für hochwertige konforme Beschichtungs- und Hartbeschichtungsanforderungen für eine Vielzahl von Substraten. APPLIED MATERIALS P 5000 ist mit zwei Netzteilen ausgestattet, die eine unabhängige Impulssteuerung und ein integriertes Absperrventil ermöglichen, das eine überlegene Temperaturgleichmäßigkeit bietet. AMAT P 5000 kann auch mit einem eingebauten Hochspannungsgenerator ausgestattet werden, so dass der Abscheidevorgang auf spezifische Anwendungen zugeschnitten werden kann. Darüber hinaus können P-5000 mit Expansionskammern, Einlasspumpen, Vakuumpumpen, Lastschlössern und einem Poppetventil integriert werden, was eine hochwertige Dünnschichtabscheidung mit überlegener Prozessreproduzierbarkeit gewährleistet. AMAT P5000 Reactor ist mit einer benutzerfreundlichen Bedienoberfläche und fortschrittlichen Sicherheitsprotokollen ausgestattet. Darüber hinaus bietet AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen, die eine vollständige Einstellung der Prozessparameter mit robuster Automatisierung ermöglichen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P-5000 Reaktor kann Substrate bis zu 450mm aufnehmen und bietet eine überlegene Gleichmäßigkeit und Abscheidungsrate über weite Bereiche. P5000 ist mit einem einzigartigen Kammerdesign ausgestattet, das es ermöglicht, Substrate aller Größen und Formen zu verarbeiten. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reactor ist eine wertvolle Technologie für die schnelle und wirtschaftliche Herstellung komplexer Dünnschichten mit überlegener Qualität und Prozesswiederholbarkeit. Der Reaktor ist ein perfektes Werkzeug für viele Branchen, die verbesserte Leistung, erhöhte Sicherheit und verbesserte Kontrolle erfordern. Durch die Beseitigung herkömmlicher Abscheidungsprozesse und die Einführung eines automatisierten, hochgleichmäßigen, schnellen und zuverlässigen Abscheidungsprozesses bietet P 5000 eine hervorragende Folieneinheitlichkeit, Haftung und glatte Abdeckung auf einer Vielzahl von Substraten. Dies macht es zu einer der zuverlässigsten und vertrauenswürdigsten Technologien für die Beschichtung einer breiten Palette von Substraten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor