Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9284522 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9284522
Weinlese: 1995
CVD System
Process: Depo rate
Oxide: 6000 A/min
Uniformity: 5%
(12) Gases:
Gas no / Sccm / Gas
1 / 200 sccm / Sih4
2 / 100 sccm / NH3
3 / 3000 sccm / N2
4 / 2000 sccm / N20
5 / 2000 sccm / CF4 / SF6
7 / 200 sccm / Sih4
8 / 100 sccm / NH3
9 / 3000 sccm / N2
10 / 2000 sccm / N2O
11 / 2000 sccm / CF4 / SF6
AC Power
Mainframe configuration:
Mark Ⅱ, 6"
I/O Wafer sensor
(21) VME Slots
Phase 3 Robot
Phase 3 Cassette handler
(8) Slots storage elevator
Viton O-ring
Clean gas box
Pressure control system
Throttle valve
Isolation valve open / Close type
Temp control: Lamp heated
Vacuum system
Chamber: EDWARDS QDP80+QMB500 Pump
Load lock chamber: ADP80
Nitrogen
Compressed air: CDA / N2
Exhaust
Fuse: AC/DC Power box
RF Power supply: 1.2 kw and 13.56 MHz
Power supply: 208 V, 200 A, AC Input, 3 Phase, 5 Wires
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor ist eine hochmoderne Ausrüstung für umfassende Dünnschichtabscheidungsprozesse. AMAT P-5000 nutzt die PVD-Technologie (Physical Vapor Deposition) und eignet sich somit ideal für hochwertige konforme Beschichtungs- und Hartbeschichtungsanforderungen für eine Vielzahl von Substraten. APPLIED MATERIALS P 5000 ist mit zwei Netzteilen ausgestattet, die eine unabhängige Impulssteuerung und ein integriertes Absperrventil ermöglichen, das eine überlegene Temperaturgleichmäßigkeit bietet. AMAT P 5000 kann auch mit einem eingebauten Hochspannungsgenerator ausgestattet werden, so dass der Abscheidevorgang auf spezifische Anwendungen zugeschnitten werden kann. Darüber hinaus können P-5000 mit Expansionskammern, Einlasspumpen, Vakuumpumpen, Lastschlössern und einem Poppetventil integriert werden, was eine hochwertige Dünnschichtabscheidung mit überlegener Prozessreproduzierbarkeit gewährleistet. AMAT P5000 Reactor ist mit einer benutzerfreundlichen Bedienoberfläche und fortschrittlichen Sicherheitsprotokollen ausgestattet. Darüber hinaus bietet AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen, die eine vollständige Einstellung der Prozessparameter mit robuster Automatisierung ermöglichen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P-5000 Reaktor kann Substrate bis zu 450mm aufnehmen und bietet eine überlegene Gleichmäßigkeit und Abscheidungsrate über weite Bereiche. P5000 ist mit einem einzigartigen Kammerdesign ausgestattet, das es ermöglicht, Substrate aller Größen und Formen zu verarbeiten. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reactor ist eine wertvolle Technologie für die schnelle und wirtschaftliche Herstellung komplexer Dünnschichten mit überlegener Qualität und Prozesswiederholbarkeit. Der Reaktor ist ein perfektes Werkzeug für viele Branchen, die verbesserte Leistung, erhöhte Sicherheit und verbesserte Kontrolle erfordern. Durch die Beseitigung herkömmlicher Abscheidungsprozesse und die Einführung eines automatisierten, hochgleichmäßigen, schnellen und zuverlässigen Abscheidungsprozesses bietet P 5000 eine hervorragende Folieneinheitlichkeit, Haftung und glatte Abdeckung auf einer Vielzahl von Substraten. Dies macht es zu einer der zuverlässigsten und vertrauenswürdigsten Technologien für die Beschichtung einer breiten Palette von Substraten.
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