Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9291957 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein CVD-Gerät (Chemical Vapor Deposition) zur Herstellung von Dünnschichtabscheidung. Dieser hocheffiziente Reaktor wurde entwickelt, um Silizium-, Germanium- und Galliumnitrid-Schichten mit Dicken von bis zu 5 nm zu verarbeiten. Der Reaktor hat eine kreisförmige Kammer mit Abmessungen von 300 mm Durchmesser und 250 mm Länge. Der Boden der Kammer besteht aus einem Hochtemperaturofen mit 12 kW Leistung. Durch diese einzigartige Bauweise kann die Temperatur der Kammer präzise gesteuert und die Abscheiderate weiter optimiert werden. Der AMAT P-5000 Reaktor ist mit einer fortschrittlichen mechanischen Vakuumpumpe mit magnetischer Suspension ausgestattet, die ein atmosphärisches Vakuumniveau bietet. Mit diesem Niederdrucksystem wird die Abscheiderate von Silizium, Germanium und Galliumnitrid stark erhöht. Es soll einen sehr niedrigen Druck in der Kammer aufrechterhalten, um ein sehr gleichmäßiges Schichtwachstum über das gesamte Substrat zu gewährleisten. Das Gerät verfügt auch über eine fortschrittliche Gasfördermaschine, um eine präzise Steuerung der Prozessgase zu erleichtern. Das Werkzeug unterstützt eine Reihe von Prozessgasen, die eine vielseitige Abscheidung ermöglichen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 ist mit einer AS-PET Poly Hot Lampe ausgelegt, die die Fähigkeit hat, das Substrat bis zu einer maximalen Temperatur von 1.000 ° C zu erwärmen. Dieses Merkmal ermöglicht die Verwendung einer Reihe von Substratmaterialien, wie Polysilizium, Polysilikatglas, Polyarylenoxid und Polyphthalamid. Zusätzlich nutzt P5000 eine einzigartig gestaltete Quarzlampe, die eine feinkörnige Prozesssteuerung ermöglicht. Die Stabilität der Anlage ist auch entscheidend für die Qualität der Dünnschicht und hier zeichnet sich AMAT P 5000 aus. Die Kammer ist abgedichtet, um eine kurzzeitige Atmosphärenschwankung zu verhindern, während die geschlossene Gasförderung gewährleistet, dass die Kammer dauerhaft auf einem konstanten Druck gehalten wird. Die hochentwickelten Temperaturregel- und Stabilisierungssysteme sorgen zudem dafür, dass die Kammer auf einer gleichbleibenden Temperatur und Druck gehalten wird, um Dünnschichtschichten höchster Qualität zu gewährleisten. In der Handhabung ist P-5000 Reaktor unglaublich effizient. Ausgestattet mit einem eingebauten Kühlmodell und Ventilator ist das Gerät in der Lage, das Substrat schnell zu kühlen, ohne eine externe Kühlquelle zu benötigen. Darüber hinaus ist die Kammer dank ihrer leichten Bauweise extrem leicht zugänglich und handhabbar. APPLIED MATERIALS P5000 ist mit kompakten Abmessungen ausgelegt, so dass es auf fast jedem Labortisch platziert werden kann. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS P-5000 ein effektives CVD-System für die Herstellung von Dünnschichtschichten. Es bietet eine präzise Temperaturregelung und extrem langlebige, wiederholbare Ergebnisse. Es ist ideal für die Abscheidung einer breiten Palette von Materialien und hat sich als eine beliebte Wahl bei Forschern und Industriefachleuten erwiesen.