Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9291960 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein zylindrischer Plasmareaktor für den Einsatz in der Halbleiterverarbeitung. Es ist in der Lage, volle Wafer bis 300mm Durchmesser zu verarbeiten und ist mit einem schnell pulsierenden Hochleistungsgenerator ausgestattet. Das Gerät nutzt eine einzige Prozesskammer mit einem HF-Fenster zur Plasmaerzeugung und -unterdrückung. Das System bietet einen einheitlichen und wiederholbaren Prozess, was bedeutet, dass die Produktionszeiten minimiert und die Produktqualität aufrechterhalten werden kann. AMAT P-5000 enthält einen Hochleistungs-Frequenzimpulsgenerator mit proprietärem Plasma-Array-Design. Diese patentierte Konstruktion nutzt leistungsarme Schaltelemente und Kathoden mit erhöhter Lebensdauer und gleichmäßiger Plasmaabgabe. Der Frequenz-Impuls-Generator ermöglicht es Benutzern, dicht gesteuerte Entladungen über einen Bereich von Temperaturen und Drücken zu erzeugen. Diese Technologie sorgt für einen stabilen und zuverlässigen Plasmaprozess und senkt gleichzeitig Wartungskosten und Betriebskosten. ANWENDUNGSMATERIALIEN P 5000 verfügt auch über eine Schutzgaseinheit, Gehäuse interne Gasquellen und Verteilnetze. Die Maschine ermöglicht es Benutzern, die gewünschten Prozessgase, wie Argon, Stickstoff und Wasserstoff, auszuwählen und sie in vom Anwender festgelegten Anteilen und Strömungsgeschwindigkeiten an die Plasmakammer zu liefern. Dies ermöglicht eine engmaschige Prozesssteuerung der Ätz- und Abscheideprozesse. AMAT P 5000 ist für Präzision und Gleichmäßigkeit gebaut und mit einem variablen Druckregelwerkzeug ausgestattet. Dadurch kann die Kammer auf gewünschten Druck eingestellt werden und die Gleichmäßigkeit über den gesamten Wafer gewährleistet werden. Darüber hinaus umfasst das Asset ein integriertes Prozessüberwachungs- und Diagnosemodell. Dieses Gerät zeichnet Informationen aus jedem Prozessschritt auf und ermöglicht es Benutzern, Prozessrezepte anzuzeigen, zu messen und anzupassen. P-5000 ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug für Halbleiterherstellungsprozesse. Mit seiner umfassenden Hochleistungs-Plasmaerzeugung und der kontrollierten Gleichmäßigkeit ermöglicht es Anwendern, die höchsten Erträge zu erzielen. Die modernsten Funktionen sorgen dafür, dass Prozesse wiederholbar, effizient und zuverlässig sind.