Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9293601 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein chemischer CVD-Reaktor, der bei der Herstellung von Halbleitern verwendet wird. Zur Optimierung der Reaktionsgeschwindigkeiten arbeitet dieser Reaktor durch Einleiten eines Reaktionsgases in die Reaktorkammer, das dann auf eine vorgegebene Temperatur und einen vorgegebenen Druck erwärmt wird. Zur Absorption der Reaktionsgasmoleküle dient eine mit inerten Partikeln gefüllte Reaktionskammer, die wiederum eine Reihe chemischer Reaktionen auslöst, die einen dünnen Film auf eine Substratoberfläche aufwachsen. AMAT P-5000 Reaktor hat eine geschlossene, Ofen-Stil Design, die eine stabile Temperatur beibehält, so dass eine genaue Kontrolle des Abscheidungsprozesses. Die Kammer arbeitet, indem sie ein Reaktionsgas in den zu erwärmenden und unter Druck zu stehenden Raum einleitet. Die anliegende Leistung und der Druck in der Kammer werden dann zur Manipulation der Reaktionsgeschwindigkeit verwendet, was wiederum die Abscheidungsgeschwindigkeit und Qualität des Dünnfilms beeinflusst. Sowohl der Temperaturbereich als auch der Druckbereich der Kammer können vom Benutzer eingestellt werden, was eine genaue Kontrolle der chemischen Reaktionen innerhalb der Kammer ermöglicht. Angewandte Materialien P 5000 verfügt auch über ein Dampfphasen-Clustering-System, um die Richtungsabscheidung von Partikeln zu steuern und jeglichen Materialaufbau an den Wänden der Kammer zu beseitigen. Zusätzlich wurde ein impulsfähiges Ätzsystem entwickelt, um die Qualität der Oberflächengüte des Dünnfilms zu verbessern. P5000 ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien zu verarbeiten, die Metalle, anorganische, organische und Oxide umfassen. Während des Abscheidens des Films arbeitet der Reaktor auch daran, den Prozess in Echtzeit zu überwachen, wodurch der Benutzer die Bedingungen innerhalb der Kammer wie Geschwindigkeit und Qualität des Films steuern und einstellen kann. Dadurch wird eine überlegene Folienqualität gewährleistet und ein Materialaufbau in den Kammerwänden verhindert. P 5000 Reaktor bietet ausgezeichnete Temperaturgleichförmigkeit, einheitliche Abscheiderate und stetige Kontrolle der Filmdicke für eine Vielzahl von Dünnschichtanwendungen. Dieser Reaktor wird häufig in der Dünnschichtforschung, der Halbleiterherstellung und der Dünnschichtsolarzellenherstellung eingesetzt.