Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9294424 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor ist eine hochleistungsfähige, fortschrittliche Abscheideausrüstung für den Einsatz in der Halbleiter- und Solarenergie-Industrie. Es ermöglicht die Abscheidung von dünnen Filmen wie SiO2, SiN, Al2O3, TiOx und anderen dielektrischen Materialien sowie Metallfolien und -schichten wie Tantal und Titan, um eine breite Palette von Halbleiterprodukten und Solarzellen herzustellen. AMAT P-5000 Reactor besteht aus einer Clusterplattform, in der Substrathalter platziert sind, und einer ALD-Kammer, in der die Abscheidungsmaterialien untergebracht sind. Die Cluster-Plattform hat eine einstellbare Höhe und einen Neigungswinkel, um eine maximale Gleichmäßigkeit der Abscheidung zu gewährleisten und die gewünschte Schichtdicke zu erhalten. Die ALD-Kammer enthält eine Reihe einstellbarer Zonen, die auf gewünschte Drücke, Temperaturen und Vorläufer eingestellt werden können, die für die Abscheidung erforderlich sind. Diese Kammer beherbergt auch eine HF-Koaxialplatte, die eine HF-Stromversorgung bietet und eine stabile, gleichmäßige Verarbeitung ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 Reactor verwendet mehrere fortschrittliche Technologien, um optimale Abscheidungsergebnisse zu gewährleisten. Die MPM-Funktion (Multi-Platform Mapping) ermöglicht eine effiziente Anpassung der Abscheidungsparameter zwischen Substraten. Dieses Abbildungsmerkmal liefert auch hohe Gleichmäßigkeitsabscheidungsraten für jedes Substrat. Die Funktion Choreographic Gated Delivery (CGD) dispergiert genau und liefert Vorläufer in den Abscheidungsbereich, so dass eine genaue Kontrolle der Filmdicke möglich ist. Die FueliCom Reaktorsteuerungstechnologie ermöglicht eine genauere Überwachung von Zeit, Temperatur und Druck, während das Autofokussystem eine hochpräzise Abscheidung von leitfähigen Mustern und Schichten ermöglicht. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor bietet zudem eine verbesserte Produktivität mit einer Vielzahl von Substratgrößen und Filmdicken. Der variable Merkmalssatz ermöglicht eine gleichmäßige Abscheidung konformer Schichten und minimale Filmspannung. Darüber hinaus kann AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reactor in einer Vielzahl von Modi für den kontinuierlichen oder gepulsten Betrieb arbeiten und einheitliche Filmeigenschaften bieten. Die benutzerfreundliche, menügesteuerte Software kann zur weiteren Steuerung und Überwachung in externe Anwendungen integriert werden. Zusammenfassend ist P 5000 Reactor eine fortschrittliche Abscheidungseinheit, die für den Einsatz in der Halbleiter- und Solarenergiebranche entwickelt wurde. Es verfügt über verschiedene fortschrittliche Technologien, wie Multi-Plattform-Mapping, choreographische gated Lieferung, fuelicom Reaktor-Steuerung, Autofokus und eine benutzerfreundliche Menü-gesteuerte Software, um eine präzise Kontrolle und gleichmäßige Abscheidung von dünnen Schichten und Metallschichten zu bieten. Diese Maschine ist eine ideale Wahl für die Herstellung einer breiten Palette von Halbleiterprodukten und Solarzellen.