Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9294470 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition) für den industriellen Einsatz. Dieser Reaktor bietet eine kritische Technologie für eine breite Palette von Halbleiter-, LED- und Flachbildschirm-Fertigungsanwendungen. Es handelt sich um einen Ein- oder Zweiwafer-Quad-Kammerreaktor mit rotierendem Suszeptor, der in der Lage ist, dielektrische, halbleitende und metallische Dünnschichten abzuscheiden. Der Reaktor ist mit einem motorisierten Waferträger ausgestattet, der seine Drehung je nach Bedarf beschleunigen oder verlangsamen kann. Zwei Lastschlösser sorgen für First-In, First-Out (FIFO) -Beladung von bis zu zwei Prozesswafern in die vier induktionsbeheizten Kammern. Die Bewegung der Waferträger gewährleistet eine präzise Erwärmung beider Waferseiten. Die Kammern werden durch vier identische Suszeptoren beheizt, die jeweils mit einem einzigen Einstellknopf betrieben werden. Dies ermöglicht eine präzise Regelung der Temperatur jeder Kammer. Die Prozessgase werden aus einem einzigen Prozessgasversorgungskrümmer zugeführt. Zur optimalen Vakuumregelung werden die Prozessbetriebsdrücke durch zwei Kapazitätsmanometer elektronisch überwacht. AMAT P-5000 Reaktor verfügt auch über selbstdiagnostische Funktionen und Datenaufzeichnung. Die Wafer-Übertragung wird über ein Kamerasystem verfolgt und überwacht, das Wafer-Tracking-Daten im Speicher des Reaktorcontrollers protokolliert. Darüber hinaus ermöglicht APPLIED MATERIALS P 5000 verschiedene Prozesskonfigurationen durch gleichmäßige Abscheidung über die gesamte Oberfläche des Wafers. Das Design von P-5000 ist flexibel und zuverlässig und der Reaktor kann mit einer Reihe von Materialien wie SiN, AlN, SiO2, CET und Wolfram verwendet werden. Die hohe Durchsatzrate, kurze Taktzeiten und der zuverlässige Betrieb von APPLIED MATERIALS P5000 es zu einer kostengünstigen und effizienten Wahl für die industrielle Herstellung von Dünnschichten machen.