Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9308001 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist ein vielseitiges Halbleitersubstratverarbeitungswerkzeug, das hauptsächlich bei der Herstellung von Hochleistungsmikroprozessoren und integrierten Schaltungen (ICs) eingesetzt wird. Das Gerät ist für den Hochdurchsatzbetrieb konzipiert und seine fortschrittlichen Wafer-Handling-Subsysteme ermöglichen ein schnelles Be- und Entladen, was einen hohen Durchsatz ermöglicht. Das System besteht aus verschiedenen Modulen, darunter der Reaktorkammer, der Übergangskammer, der Randaustrittskammer und einer separaten Substratfördereinheit. Die Reaktorkammer ist Hauptbestandteil der Maschine und beherbergt die proprietäre Prozesskammer, die ein rotierendes Rad aufweist, das den Wafer zur gleichmäßigen Erwärmung und Kühlung während des Prozesses über die Bearbeitungsfläche bewegt. Die Übergangskammer dient als Grenzfläche zwischen dem Wafer und der Kantenaustrittskammer, die die Ätz-, CMP- und andere Prozessmodule aufnimmt, die zur Herstellung des Endproduktes dienen. AMAT P-5000 Tool verwendet sowohl Hochvakuum als auch Ultrahochvakuum-Technologie, um eine Umgebung zu schaffen, die für die kontrollierte Substratverarbeitung erforderlich ist. Innerhalb der Prozesskammer kann ein Substrat Temperaturen bis 850 ° C und Drücken bis 10-8 Torr ausgesetzt werden. Die Prozesskammer ist mit einer Ätzanlage, einem Spin-Coating-Modell, einer CPL (Chemically Vapor Deposited) -Ausrüstung und einem Photoresistsystem ausgestattet, die alle eine komplette Palette von Substratverarbeitungsfähigkeiten ermöglichen. Die Bildverarbeitungseinheit gibt Informationen über die Substratoberfläche für die Prozesskomponenten zur Steuerung ihrer Funktionen. Die Kantenaustrittskammer ist derweil mit verschiedenen Sensoren und Scannern ausgestattet, um die Qualität und Gleichmäßigkeit der Endprozesse zu steuern. APPLIED MATERIALS P 5000 ist ein wichtiger Bestandteil moderner Halbleiterproduktionslinien und bietet eine konsistente und zuverlässige Plattform für die Erstellung von Produkten der nächsten Generation. Es wurde entwickelt, um die Produktionskosten zu senken und den Durchsatz zu erhöhen, was eine effiziente und effektive Produktion ermöglicht. Mit seinen fortschrittlichen Technologien kann der AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktor sicherstellen, dass Produkte konsequent mit höchster Material- und Präzisionsqualität hergestellt werden.
Es liegen noch keine Bewertungen vor