Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9308744 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein CVD-Reaktor für die Produktion von epitaktischen und homoepitaktischen Substraten und breitbandigen Halbleiterbauelementen wie Siliciumcarbid, Galliumarsenid und InP. Dieses Gerät verwendet einen AMAT-Diffusions- und chemischen Reaktionsprozess, um dünne, konforme Materialien auf einem Substrat abzuscheiden. AMAT P-5000 ist ein Hochvolumensystem, das bis zu 1.000 Wafer pro Stunde produzieren kann und für den Anbau von Breitband-Gap-Substraten konzipiert ist. Sie nutzt eine Reaktionszone, Diffusionszone und Gaszone, die die Bildung sechseckiger Epitaxiekristalle ermöglicht. Durch die Regelung des Atmosphärendrucks, der Prozesstemperatur und der Durchflussrate ist APPLIED MATERIALS P 5000 in der Lage, ultradünne Filme und homoepitaktische Schichten zu erzeugen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P-5000 verwendet ein Zweizonenverfahren, das eine Vorreaktionszone und eine Hauptreaktionszone aufweist. In der Vorreaktionszone werden die Gase mit einer bestimmten Strömungsgeschwindigkeit und Temperatur eingeleitet. Das erzeugte Plasma zerlegt die Moleküle in kleinere Fragmente, die dann in die Reaktionszone transportiert werden. In der Reaktionszone werden die Fragmente als dünne und konforme Schicht auf das Substrat abgeschieden. Außerdem wird die Durchflussmenge je nach Bedarf für eine optimale Bearbeitungssteuerung hoch- und heruntergefahren. P5000 Reaktor verfügt auch über digitale Temperaturregelung, Druckregelung und HF-Anpassung, die eine präzise Steuerung der Prozessparameter ermöglicht. Die offene Kammerkonstruktion trägt auch dazu bei, dass unterschiedliche Gase und Verbindungen für spezifische Anwendungen verwendet werden können. Das Gerät ist für optimale Sicherheit mit antistatischen Komponenten für mehr Zuverlässigkeit zertifiziert. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 ist ein vielseitiges und effizientes Werkzeug für den Anbau fortschrittlicher Materialien. Durch die Steuerung des atmosphärischen Drucks, der Prozesstemperatur und der Durchflussrate kann die Maschine zuverlässig hochwertige Substrate und Materialien wachsen lassen, die ideal für Halbleiterbauelemente sind. Durch präzise Steuerung und verbesserte Sicherheitsfunktionen können AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 die Hochleistungsmaterialien bereitstellen, die für die Realisierung von Technologien der nächsten Generation erforderlich sind.