Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9311420 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein chemischer CVD-Reaktor, der üblicherweise zur Abscheidung dünner Filme auf Halbleiter- oder verwandten Substraten verwendet wird. Es verwendet ein Niederdruck- oder Vakuum-CVD-System, bei dem Vorläufergase in die Prozesskammer eingeleitet werden, die mit dem Substrat reagieren, um den gewünschten Dünnfilm abzuscheiden. AMAT P-5000 ist für die gleichzeitige Aufnahme von bis zu acht einzelnen Wafersubstraten konzipiert und kann mit verschiedenen Komponenten konfiguriert werden, was spezifische Prozessanforderungen ermöglicht. Die Prozesskammer ist aus Aluminium aufgebaut; mit einem Quarz-Viewport, der eine visuelle Inspektion des Substrats während der Verarbeitung ermöglicht. Die Kammer ist außerdem mit einer widerstandsbeheizten elektronischen Abscheidungsquelle und einer Duschkopfanordnung ausgestattet. Die elektronische Abscheidungsquelle versorgt das Substrat mit der für das Auftreten des Prozesses erforderlichen Energie, während die Duschkopfanordnung für eine Vielzahl von Vor- und Nachbearbeitungsverfahren verwendet wird, einschließlich Vorreinigung, Plasmaätzen und Nachreinigung. Die Kammer umfasst auch Massenstromregler (MFCs) zur Steuerung der Einleitung von Vorläufergasen in die Prozesskammer sowie Quarzauskleidungen zur Aufrechterhaltung überlegener Prozessgleichförmigkeit. Der Controller für APPLIED MATERIALS P 5000 ist ein Single-Board-Computersystem mit einem 5-Zoll-Farb-VGA-Display, einer Maus und einer Membrantastatur, mit der der Benutzer Befehle eingeben kann. Es enthält auch über 100 Rezepte in der Lage zu speichern Rezepte zu einem späteren Zeitpunkt zurückzurufen. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 ist in der Lage, eine breite Palette von Materialien und dünnen Filmen abzuscheiden, einschließlich dielektrischer Materialien wie Aluminiumoxid, Nitride und Oxide. Dieses System wird auch verwendet, um Metalle wie Aluminium, Nickel und Titan abzuscheiden. Darüber hinaus kann P 5000 auch zur Verarbeitung von metallorganischen Gasquellen konfiguriert werden. Abschließend ist AMAT P5000 ein wichtiges Werkzeug für die Dünnschichtabscheidung, das weitgehend in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Die verschiedenen Komponenten von AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 eine hervorragende Prozessgleichmäßigkeit und -kontrolle sowie die Fähigkeit, viele verschiedene Arten von Materialien zu verarbeiten, ermöglichen.