Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9351563 zu verkaufen

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ID: 9351563
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
CVD System, 8" Chamber A / B / D: Type: DCVD Universal Process: Delta / TEOS Process kit: Plasma C-Chuck Manometer: Dual 20-1000 Torr / MKS Clean method: RF Clean Throttle valve: Direct drive dual spring W/C plug Gas box MFC: UNIT MFC Lamp driver RF Match: Phase IV Chamber C: Process: Sputter etcher Standard process kit Manometer: Single Torr / MKS Clean method: RF Clean Standard throttle valve Gas box MFC: UNIT MFC 21-Controller slots Floppy Disk Drive (FDD), 3.5" Robot type: Phase III Auto-load / Unload cassette handler Silicon-Tin-Oxide (STO) elevator type: 15-Slots WPS Sensor I/O Wafer sensor Loadlock purge Loadlock slow vent Slit valve type: ZA Slit valve Hot box version: Version IV Top / Standard exhaust line (28) Gas line panels Mini controller Missing parts: Turbo pump (Chamber C) RF Match (Chamber C) SBC Board Video board Ampule RF Generator OEM 12B I, II 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist ein robustes, leistungsstarkes Produktionswerkzeug, das die Abscheidung von Materialien von Legierungen über Oxide bis hin zu Dielektrika mit kompletter Oberflächendeckung und optimierten Mikrostrukturen ermöglicht. Der Reaktor wird von einer hocheffizienten Quelle mit einem gepulsten Elektronenstrahl und einem hocheffizienten Ionisator angetrieben, die hohe Abscheidungsraten bei hoher Abdeckung und Homogenität erzeugen kann. Der AMAT P-5000 Reaktor verfügt über einen integrierten Hochleistungs-gepulsten Elektronenstrahl (PEB), der Ionen gleichmäßig verzögert und eine gleichmäßige Abdeckung in einem breiten Spektrum von Ätzprozessen ermöglicht und eine vollständige Abdeckung tiefer Strukturen bietet. Das PEB ermöglicht auch das Hochtemperaturglühen der Materialien während der Abscheidung, was eine verbesserte Metallbindung und bessere Materialeigenschaften ermöglicht. Ein einstellbarer Dual-Direction-End-Effusion-Ionisator ermöglicht die Feinabstimmung von Ionenpopulationen, was ein effizientes Ionenbeschuss und eine gleichmäßige Abdeckung des Substrats ermöglicht. APPLIED MATERIALS P 5000 ist ein hochdurchsatzreiches, kostengünstiges Reaktorsystem mit einem breiten Anwendungsspektrum. Es eignet sich für eine Reihe von Verfahren auf dem Gebiet der Mikroelektronik, einschließlich der Abscheidung von Dielektrika, der Metallverdampfung und der Beschichtung von Metallen. Der Reaktor eignet sich auch gut zur Abscheidung von organischen, anorganischen und hybriden Folien wie Isolatoren, Leitern und anderen Substratarten. Darüber hinaus eignet sich der Reaktor sowohl für harte als auch weiche Glühprozesse, um die Eigenschaften und Mikrostruktur des Substrats zu modifizieren. P-5000 Reaktor verfügt über ein mehrstufiges Design, das ein Hochgeschwindigkeitswaschen von Wafern vor dem Abscheiden und Trocknen von Wafern nach dem Ätzen ermöglicht, um die Verarbeitungsqualität zu verbessern. Das System enthält auch einen speziellen Plasma-Monitor, um eine effiziente und genaue Kontrolle der Kammerparameter zu gewährleisten. Darüber hinaus verwendet APPLIED MATERIALS P-5000 ein Gaspanel, das es Anwendern ermöglicht, eine Vielzahl von Gasen zur Kalibrierung oder Kammerreinigung einzusetzen. Der hocheffiziente P5000-Reaktor eignet sich hervorragend für Produktionsabläufe in einem breiten Anwendungsspektrum und wird durch umfangreichen technischen Support, Schulungen und Dienstleistungen von AMAT unterstützt. P 5000 ist eine ideale Lösung für Halbleiterherstellungsprozesse, die hohe Qualität, Zuverlässigkeit und wiederholbare Ergebnisse erfordern.
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