Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9356942 zu verkaufen
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ID: 9356942
Wafergröße: 8"
PECVD System, 8"
Nitride PARC
(4) CVD Chambers
Wafer sense
Robot
Storage elevator
Ergo cassette loaders
UNIT 1660 Mass Flow Controller (MFC)
RF Matching network
Lamp modules
Electrical / Pump rack
RIF Rack
(2) EDOCS With rack
Mini controller
Monitor rack
Heat exchanger
Cables
Missing parts:
Process kits
Mouse.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist eine fortschrittliche Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Ausrüstung für die Abscheidung von dünnen Filmen und Materialien für eine Vielzahl von Anwendungen. Das System verwendet eine Mikrowellen-Plasmaquelle und wassergekühlte Duschkopfplatten, um einheitliche und konforme Folien aus Polysilizium, Siliziumnitrid, Siliziumoxid und anderen Materialien mit präziser Dickenkontrolle zu erzeugen. AMAT P-5000 verwendet einen entfernten Mikrowellengenerator und eine einzigartige Advanced Energy Delivery Unit (AEDS) zur präzisen Steuerung von Leistung, Druck und Gaszufuhr in die PECVD-Kammer. Die Mikrowellenquelle besteht aus einem weiten Frequenzbereich von 2,45 GHz bis 2,75 GHz, was optimale Filmabscheidungsbedingungen ermöglicht. Der AEDS wurde entwickelt, um die Mikrowellenleistung, HF-Leistung und Gasströme präzise und konstant zu halten, unabhängig vom Kammerdruck. APPLIKATIONSMATERIALIEN P 5000 Reaktor selbst ist eine Quarzkammer, die großflächig eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit bietet. Die Prozesskammer verfügt über ein vollständiges Gehäuse und eine automatisierte Tuningmaschine, um eine präzise Druck-, Temperatur- und HF-Anpassung zu gewährleisten. P 5000 verfügt auch über einen großen flachen Probenhalter, der Substrate bis zu 8 „im Durchmesser und bis zu 1/2“ dick aufnimmt. Die Prozesszeit wird durch ANGEWANDTE MATERIALIEN P-5000 Werkzeugsoftware gesteuert, die eine präzise Steuerung der Filmabscheiderate, der Gasströme, des Drucks und der Temperatur ermöglicht. AMAT P5000 eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen in Niedertemperatur- und Hochtemperaturabscheidungsprozessen. Es kann verwendet werden, um dünne Filme wie Polysilizium, Siliziumnitrid und Siliziumoxid zur Verwendung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen herzustellen. Seine präzise Steuerung und Gleichmäßigkeit erzeugt hochkonforme und extrem glatte dünne Folien für hohe Qualität und zuverlässige Leistung. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 ist ein ideales Werkzeug für F&E, Prozessentwicklung und Produktionseinsatz.
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