Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9373099 zu verkaufen
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ID: 9373099
CVD system, 6"
SV21 SBC Board
Main frame type: Mark-II
Cassette indexer, 6" clamp
8-Slots elevator
(2) CRT Monitors
Robots: Phase-III
Robot blade: Standard vacuum
Center finder: USE
Cap wafer sensor
AC Rack: 1 Shrink
Heat exchanger
EMO Option: Turn to release
EMO Button guard rings
Status light tower (Color / Position): Red, yellow, green, blue
Signal cable: 25'
Flash Hard Disk Drive (HDD)
Floppy: 3.5" SCSI Driver
Gas panel: 12 Channels standard / Minicontroller
RF Generator:
Chamber A: OEM12B-07
Chamber B: OEM12B-02
Chamber C: OEM12B-02
Chamber:
Chamber position: A, B, D
Chamber type: DLH 1-Hole
Process: SiH4 Oxide
Heater type: Lamp
Susceptor type: Al
(3) Matches
Delta nitride dual spring throttle valve
Gas panel: 20 Standard channels
Gas supply: Top down
MFC: SEC4400MC
Manual valve: NUPRO
Pneumatic 2-Way valve: NUPRO
MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr
Gases:
Gas / Range
N2 / 3 SLM
SiH4 / 100 SCCM
CF4 / 2 SLM
N2O / 2 SLM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein handelsüblicher UHV-Reaktor mit hoher Kapazität, der für den Einsatz in einer Vielzahl von Ultrahochtemperaturprozessen entwickelt wurde. Die Ausrüstung wurde entwickelt, um überlegene Sauberkeit und Temperaturgleichmäßigkeit zu bieten und gleichzeitig einen hohen Durchsatz und Produktivität zu bieten. Es ist aus Edelstahl mit einer Vielzahl von Benutzer ausgewählten Oberflächen hergestellt. Das System verfügt über eine leistungsstarke wasserstrahlunterstützte Abscheideeinheit, die einen effizienten Energieeintrag und eine Substratheizung für eine einheitliche, wiederholbare Abscheidungsprozesssteuerung bietet. Diese Maschine bietet auch High-Speed-Scanning und volle Puls-Plasma-Anregung Fähigkeiten. Im Zentrum des Werkzeugs steht eine Hochleistungsreaktorkammer mit Ultrahochvakuum. Diese Kammer ist entworfen, um eine Ultrahochvakuumumgebung mit langen Pumpzyklen zur Verfügung zu stellen, die eine Vielzahl von Ultra-Hochtemperaturprozessen ermöglicht, wie Sputtern, Hochtemperaturverdampfung und mehrere andere chemische Dampfabscheidungsprozess. Die hohe Temperatur, Gleichmäßigkeit und Modularität von AMAT P-5000 ermöglicht es, eine breite Palette von Prozessparametern und Materialien in einem Asset zu testen. Das Modell APPLIED MATERIALS P 5000 ist auch mit fortschrittlichen Materialhandhabungs- und Positioniersystemen ausgestattet. Dazu gehören eine Wafer-Positioniereinrichtung und ein Roboterarm, mit dem Teile manipuliert werden können, die beide in allen drei komplementären Bewegungsachsen arbeiten können. Das System umfasst auch eine lineare Stufe zur genauen Teilepositionierung und Punkt-zu-Punkt-Bewegung sowie einen dreidimensionalen Encoder zur präzisen Teilepositionierung. Diese Einheit ermöglicht ein effizientes, wiederholbares Be- und Entladen von Bauteilen in die Kammer und ermöglicht es dem Anwender, die gewünschten Prozessergebnisse zu erzielen. P5000 Maschine wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Prozessrezepten zu unterstützen, einschließlich konformer Abscheidung und Ätzverarbeitung. Die stabile Hochtemperaturumgebung und ein einstellbares Gasförderwerkzeug machen es für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet. Die Anlage beinhaltet auch integrierte Prozessüberwachungswerkzeuge, wie In-situ-Überwachung der Prozesskammer und Auswurf der abgeschiedenen Folien. Das integrierte In-Process-Monitoring-Modell bietet Echtzeit-Prozess-Feedback, so dass Anwender rechtzeitig Anpassungen vornehmen können, um Produktionserträge und -qualität zu verbessern. AMAT P 5000 Reactor ist eine ideale Wahl für Anwender, die eine optimierte und hochproduktive Prozessplattform für eine Reihe von Abscheide- und Ätzprozessen suchen. Durch die Kombination aus effizientem Energieeintrag, hoher Temperaturgleichmäßigkeit und integrierter Prozesssteuerung ist es die perfekte Wahl für effiziente und wiederholbare Produktionsabläufe. Dank seines benutzerfreundlichen Designs können auch unerfahrene Anwender die Geräte schnell einrichten und betreiben, um maximale Prozesserträge zu erzielen.
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