Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9377273 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9377273
Wafergröße: 6"
Etcher, 6" BPSG.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der zur Abscheidung von dünnen Schichten und metallischer organischer chemischer Dampfabscheidung (MOCVD) entwickelt wurde. Mit seiner innovativen Architektur bietet AMAT P-5000 eine präzise, leistungsstarke Folienabscheidung für die anspruchsvollsten Anwendungen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 nutzt einen hocheffizienten, energiereichen Betrieb, um den Energieverbrauch zu minimieren. Der Reaktor ist mit einer modularen Hochtemperatur- und Niederdruckplattform ausgestattet, die eine präzise Temperaturregelung und eine gleichmäßige Filmabscheidung ermöglicht. Der Reaktor ist speziell für eine Vielzahl von Materialien ausgelegt, einschließlich Materialien mit höheren Temperaturbedürfnissen, wie Silizium und Germanium. ANGEWANDTE MATERIALIEN P-5000 verfügt über eine einzigartige und präzise Inertgasförderanlage, die ein hohes Maß an Prozesskontrolle ermöglicht. Das System enthält einen „Nulling“ -Algorithmus, der die Einheit so einstellt, dass sie eine vorgewählte Konzentration erreicht. Dadurch wird eine sehr gleichmäßige und gleichmäßige Qualität der abgeschiedenen Folie erreicht. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 bietet zudem eine breite Palette von internen Gasleitungen in vorkonfigurierter und indexierter Weise an, was die Gasversorgungsmaschine vereinfacht. Diese fortschrittliche Technologie ermöglicht es einem Bediener, schnell zwischen bestimmten Abscheideparametern zu wechseln, ohne manuell eingreifen zu müssen. P 5000 ist ein sehr zuverlässiger, robuster Reaktor, der auf Korrosionsbeständigkeit sowie Druck- und Temperaturanforderungen ausgelegt ist. Ein erweitertes Control Board erleichtert die einfache Überwachung, Steuerung und Prozessoptimierung und ermöglicht eine Vielzahl von Parametereinstellungen. APPLIED MATERIALS P5000 ist ein integriertes Werkzeug, das umfassende Abscheidelösungen von der ersten Vorläuferlieferung bis zur Auswahl des Substrats bietet. Seine breite Palette von Foliendickenparametern, gekoppelt mit seiner Inertgaslieferung, hilft, eine gleichmäßige Abscheidungsqualität zu gewährleisten. Der Reaktor ist kostengünstig und somit eine ideale Wahl für kostensensible Anwendungen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor