Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9383379 zu verkaufen

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ID: 9383379
CVD System SNNF, 8" Wafer shape: 25-Slot SNNF Main frame: Loadlock: Standard Buffer chamber robot: Standard Process chamber (PECVD): Position A, B and C Cassette stage: Position: A and B Clamp on cassette 25-Slots Storage elevator: Center find 4-Slots Buffer chamber: Buffer type: Standard Load lock : Slow and fast Vent type: Venting and diffuser Load lock pumping type: Fast load lock pumping Slit valve: Bonded Wafer detector: Blade cap and vac sensor Gas / Pressure: Gas feed: Top Filters: MILLIPORE / PALL Pneumatic valves: Nupro / Veriflow Chamber pressure gauge: MKS 10 Torr Chamber foreline TC gauge: VARIAN Gas for chamber A: Gas / MFC SiH4 / 500 sccm N2 / 100 sccm N2O-H / 3000 sccm NF3 / 20 sccm N2O / 300 sccm Cl2 / 100 sccm Gas for chamber B: Gas / MFC SiH4 / 500 sccm N2 / 100 sccm N2O-H / 3000 sccm NF3 / 20 sccm N2O / 300 sccm Cl2 / 100 sccm Gas for chamber C: Gas / MFC O2 / 00 sccm CF4 / 20 sccm Ar / 100 sccm RF Generator and heat exchanger: ENI OEM-12B RF Generator: Chamber A and B ENI OEM-6 RF Generator: Chamber D RF match type: Phase-VI (2) RF Cable: 50ft CVD Heat exchanger type: AMAT-1 Heat exchanger signal cable: 32ft System local monitor: CRT with light pen Remote control cables (Analog, digital): (2) 50 FT Etchers Lift assembly Susceptor lift assembly Transfer robot Slit valve cylinder Wafer lift bellows Susceptor lift bellows Robot blade, 8" Throttle valve (Dual spring type) Belts in throttle valves DC Power cable: 50ft EMO Cable: 50ft Hard disk in VME Missing Power supply: 208 V, 50/60 Hz, 250 A / 5-Wires.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Plasma-CVD-Reaktor, der zur Oberflächenmodifizierung und Abscheidung verschiedener Materialschichten verwendet wird. Die Plasma-CVD-Technik von AMAT P-5000 ist ein Niederdruckverfahren, das ein Gemisch von Gasen verwendet, die unter Verwendung eines Plasmas ionisiert werden, um die für die Oberflächenmodifizierung erforderlichen Reaktionen und Abscheidungen zu erzeugen. Das Gefäß, durch das das Verfahren durchgeführt wird, ist aus Edelstahl gefertigt und doppelwandig, um eine gleichmäßige Druck- und Temperaturregelung zu gewährleisten. Die Kammer ist mit einem Bauteil beaufschlagt, das groß genug ist, um verschiedenen Prozeßbedürfnissen gerecht zu werden, die auf einer integrierten Elektrode angeordnet sind. Das Innere des Gefäßes wird dann abgedichtet und eine Pumpe beginnt, Luft und andere Gase zu entfernen, wodurch ein Vakuum innerhalb des verschlossenen Gefäßes entsteht. Die Erzeugung eines Plasmas wird durch Einbringen eines Gemisches aus benötigten Gasen mit hoher Geschwindigkeit und mit niedrigem Druck durch den Teil des Gefäßes erreicht. Ein Vakuum wird mit einem HF-Generator und einer Induktorspule erzeugt. Das Gasgemisch wird dann durch das magnetisch erzeugte energiereiche Feld ionisiert. Dieses Plasma liefert eine hohe Konzentration von Elektronen und Ionen, die Moleküle abbauen und mit der Komponente im Gefäß reagieren können. APPLIED MATERIALS P 5000 ist bekannt für seine Flexibilität und robuste Konstruktion, da es eine Vielzahl von Bauteilformen und -größen aufnehmen kann. Mit P-5000 erreichbare Verfahren sind unter anderem Nitrieren, Ätzen und Siliziumabscheidung. Zusätzlich kann das System als Injektor für eine Vielzahl von Dotierungsvorgängen dienen. Die Vielseitigkeit von APPLIED MATERIALS P-5000 hat es zu einem Arbeitstier für viele Forschungslabore in Industrie und Wissenschaft gemacht, und seine Fähigkeit, qualitativ hochwertige Ergebnisse zu produzieren, macht es zu einer bevorzugten Wahl für eine Vielzahl von Oberflächenmodifikationsbedürfnissen. AMAT P5000 ist eine effiziente, langlebige und zuverlässige Lösung zur Verbesserung der Materialoberfläche und Gesamtleistung von Bauteilen.
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