Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9383379 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9383379
CVD System
SNNF, 8"
Wafer shape: 25-Slot SNNF
Main frame:
Loadlock: Standard
Buffer chamber robot: Standard
Process chamber (PECVD): Position A, B and C
Cassette stage:
Position: A and B
Clamp on cassette
25-Slots
Storage elevator:
Center find
4-Slots
Buffer chamber:
Buffer type: Standard
Load lock : Slow and fast
Vent type: Venting and diffuser
Load lock pumping type: Fast load lock pumping
Slit valve: Bonded
Wafer detector: Blade cap and vac sensor
Gas / Pressure:
Gas feed: Top
Filters: MILLIPORE / PALL
Pneumatic valves: Nupro / Veriflow
Chamber pressure gauge: MKS 10 Torr
Chamber foreline TC gauge: VARIAN
Gas for chamber A:
Gas / MFC
SiH4 / 500 sccm
N2 / 100 sccm
N2O-H / 3000 sccm
NF3 / 20 sccm
N2O / 300 sccm
Cl2 / 100 sccm
Gas for chamber B:
Gas / MFC
SiH4 / 500 sccm
N2 / 100 sccm
N2O-H / 3000 sccm
NF3 / 20 sccm
N2O / 300 sccm
Cl2 / 100 sccm
Gas for chamber C:
Gas / MFC
O2 / 00 sccm
CF4 / 20 sccm
Ar / 100 sccm
RF Generator and heat exchanger:
ENI OEM-12B RF Generator: Chamber A and B
ENI OEM-6 RF Generator: Chamber D
RF match type: Phase-VI
(2) RF Cable: 50ft
CVD Heat exchanger type: AMAT-1
Heat exchanger signal cable: 32ft
System local monitor: CRT with light pen
Remote control cables (Analog, digital): (2) 50 FT Etchers
Lift assembly
Susceptor lift assembly
Transfer robot
Slit valve cylinder
Wafer lift bellows
Susceptor lift bellows
Robot blade, 8"
Throttle valve (Dual spring type)
Belts in throttle valves
DC Power cable: 50ft
EMO Cable: 50ft
Hard disk in VME Missing
Power supply: 208 V, 50/60 Hz, 250 A / 5-Wires.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Plasma-CVD-Reaktor, der zur Oberflächenmodifizierung und Abscheidung verschiedener Materialschichten verwendet wird. Die Plasma-CVD-Technik von AMAT P-5000 ist ein Niederdruckverfahren, das ein Gemisch von Gasen verwendet, die unter Verwendung eines Plasmas ionisiert werden, um die für die Oberflächenmodifizierung erforderlichen Reaktionen und Abscheidungen zu erzeugen. Das Gefäß, durch das das Verfahren durchgeführt wird, ist aus Edelstahl gefertigt und doppelwandig, um eine gleichmäßige Druck- und Temperaturregelung zu gewährleisten. Die Kammer ist mit einem Bauteil beaufschlagt, das groß genug ist, um verschiedenen Prozeßbedürfnissen gerecht zu werden, die auf einer integrierten Elektrode angeordnet sind. Das Innere des Gefäßes wird dann abgedichtet und eine Pumpe beginnt, Luft und andere Gase zu entfernen, wodurch ein Vakuum innerhalb des verschlossenen Gefäßes entsteht. Die Erzeugung eines Plasmas wird durch Einbringen eines Gemisches aus benötigten Gasen mit hoher Geschwindigkeit und mit niedrigem Druck durch den Teil des Gefäßes erreicht. Ein Vakuum wird mit einem HF-Generator und einer Induktorspule erzeugt. Das Gasgemisch wird dann durch das magnetisch erzeugte energiereiche Feld ionisiert. Dieses Plasma liefert eine hohe Konzentration von Elektronen und Ionen, die Moleküle abbauen und mit der Komponente im Gefäß reagieren können. APPLIED MATERIALS P 5000 ist bekannt für seine Flexibilität und robuste Konstruktion, da es eine Vielzahl von Bauteilformen und -größen aufnehmen kann. Mit P-5000 erreichbare Verfahren sind unter anderem Nitrieren, Ätzen und Siliziumabscheidung. Zusätzlich kann das System als Injektor für eine Vielzahl von Dotierungsvorgängen dienen. Die Vielseitigkeit von APPLIED MATERIALS P-5000 hat es zu einem Arbeitstier für viele Forschungslabore in Industrie und Wissenschaft gemacht, und seine Fähigkeit, qualitativ hochwertige Ergebnisse zu produzieren, macht es zu einer bevorzugten Wahl für eine Vielzahl von Oberflächenmodifikationsbedürfnissen. AMAT P5000 ist eine effiziente, langlebige und zuverlässige Lösung zur Verbesserung der Materialoberfläche und Gesamtleistung von Bauteilen.
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