Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9385160 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein High-End, Hochdurchsatz, Multi-Wafer-Prozessreaktor für den Einsatz in Produktions- oder Forschungslabors. Es ist kompatibel mit Standard 200mm Wafern und bietet 12 „Wafer-Fähigkeit mit einer Option für bis zu 24“ Wafer. Der Reaktor bietet eine überlegene Temperaturgleichmäßigkeit und Prozesswiederholbarkeit bei hoher thermischer Stabilität, was hohe Leistungsergebnisse ermöglicht. AMAT P-5000 bietet mit seiner integrierten Multi-Module-Substratbelastung einen verbesserten Durchsatz, was Ausfallzeiten und Ausfallzeiten reduziert. Der Reaktor ist in der Lage, Verfahrensschritte wie Ätzen, Abscheiden und Sputtern in einer Vielzahl von Konfigurationen. Seine fortschrittliche Steuerungsausrüstung bietet eine überlegene Prozesssteuerung sowie die Möglichkeit, die Prozessbedingungen jederzeit zu überwachen. Das System kann problemlos an andere steuerbare Peripheriegeräte, wie Massenstromregler (MFCs) und Load-Lock-Systeme angeschlossen werden, wodurch eine Vielzahl von Prozesseinschränkungen effektiv abgehandelt werden können. APPLIKATIONSMATERIALIEN P 5000 bietet zudem eine bis zu 3000W Substratheizung für schnellere Prozessabläufe sowie einen geringeren Gasverbrauch und eine verbesserte Handhabung von thermischen Zyklen. Die vereinheitlichte Mehrprozesskammereinheit ermöglicht ein gleichzeitiges Multi-Wafer-Tunneln für einen erhöhten Produktionsdurchsatz. Die verschiedenen Prozesskammerkonfigurationen bieten Platz für bis zu zwei 2-Zoll oder einen 3-Zoll-Wafer pro Prozess. Das Vor-Ort-Monitoring, das über die Steuerungsmaschine angeboten wird, hilft dabei, den Prozess zu optimieren, ohne auf Durchsatz zu verzichten. Eines der Hauptmerkmale dieses Werkzeugs ist seine Fähigkeit, eine Vielzahl von reaktiven Ätz- und Abscheidungsprozessen zu handhaben, einschließlich Nassätzen, Richtätzen und Seitenwandabscheidungen. Solche Prozesse erfordern ein hohes Maß an chemischer Kontrolle und Sondensicherheit. Der Reaktor bietet verbesserte Sicherheitsfunktionen mit In-situ-Gasförderung, Spülgasförderung und einem Inertgas-Gegendruck für ein verbessertes Wafer-Handling. P-5000 Reaktor ist ideal, um den Anforderungen der heutigen anspruchsvollen FuE- und Produktionsanforderungen gerecht zu werden. Seine fortschrittlichen Prozesssteuerungen und mehrere interne Prozesskammerkonfigurationen geben Anwendern beispiellose Kontrolle über ihre Prozesse. Das Asset kann problemlos in bestehende Modellarchitekturen integriert werden, wobei die Qualitätsleistung und Zuverlässigkeit erhalten bleiben. Mit APPLIED MATERIALS P5000 können Anwender einen höheren Waferdurchsatz, eine verbesserte Prozesswiederholbarkeit und eine bessere Prozesskontrolle erzielen.