Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9389401 zu verkaufen
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ID: 9389401
Wafergröße: 6"
CVD System, 6"
SV21 SBC Board
Main frame type: Mark-II
Cassette indexer, 6" Clamp
8 Slots elevator
(2) CRT Monitor
Robots: Phase-III
Robot blade: Standard vacuum
Centerfinder: USE
Cap wafer sensor
AC Rack: 1 Shrink
Heat exchanger
EMO Option: Turn to rekease
EMO Button guardrings
Status light tower (Color / Position): Red, Yelow, Green, Blue
Signal cable: 25'
Flash hard disk drive
Floppy: 3.5" SCSI Driver
Gas panel: 12 Channels standard / Minicontroller
RF Generator:
Chamber A: OEM12B-02
Chamber B: OEM12B-02
Chamber C: OEM12B-07
Chamber:
Chamber position: A, B, D
Chamber type: DLH 1-Hole
Process: SiH4 Oxide
Heater type: Lamp
Susceptor type: Al
(3) Matchers
Delta nitride dual spring throttle valve
Gas panel: 20 Standard channels
Gas supply: Top down
MFC: UFC-1660
Manual valve: NUPRO
Pneumatic 2-Way valve: NUPRO
MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr
Gases:
Gas / Range
N2 / 3 SLM
SiH4 / 100 SCCM
CF4 / 2 SLM
N2O / 2 SLM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist ein hochwertiges und zuverlässiges Werkzeug, das in der Halbleiterindustrie zur Verbesserung der Prozessleistung und zur Überwachung der Zuverlässigkeit der Bauelemente eingesetzt wird. Dieser Reaktortyp besteht typischerweise aus einer Ionenquelle, einer Prozesskammer und einer Elektronenkanone. Die Ionenquelle dient zur Erzeugung eines kontrollierten Plasmas, das zum Abscheiden von Materialien auf der Oberfläche des Werkstücks verwendet wird. Die Prozeßkammer wirkt als Reaktionskammer, in der das Plasma auf die gewünschten Prozeßbedingungen modifiziert wird. Dies geschieht durch Steuerung von Gasfluss, Druck, Leistung und anderen Parametern. Die Elektronenkanone ist ein starker Elektronenstrahl, der verwendet wird, um die Oberfläche des zu behandelnden Materials physikalisch zu modifizieren. Die Hauptmerkmale des AMAT P-5000 Reaktors sind seine Fähigkeit, präzise und wiederholbare Verarbeitungsergebnisse zu liefern, sowie seine Fähigkeit, eine sensible Prozessüberwachung durchzuführen. Diese Art von Reaktor setzt auf ein Mehrkanal-Feedback-System und fortschrittliche Automatisierungssoftware, um konsistente, wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. Dieser Reaktortyp verfügt auch über ein fortschrittliches Diagnosesystem, das den Zustand von Komponenten überwacht und eine effizientere Nutzung von Ressourcen ermöglicht. Angewandte Materialien P 5000 Reaktor ist relativ kompakt und robust, so dass es ideal für den Einsatz in rauen Umgebungen. Es verfügt auch über ein integriertes Diagnosesystem, das Daten während des gesamten Prozesses überwacht und aufzeichnet und effiziente Operationen, Fehlerbehebung und Wartung ermöglicht. Darüber hinaus bietet das Gerät eine sichere Arbeitsumgebung mit Sicherheitsfunktionen, die versehentliche Überhitzungen oder Stromabschaltungen verhindern und überwachen. P5000 Reaktor ist für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterindustrie gut geeignet und wird häufig in Abscheide- und Ätzprozessen eingesetzt. Es ist in der Lage, Substrate mit hohen elektrischen, thermischen und optischen Eigenschaften zu verarbeiten, wodurch es für eine Reihe von Materialien wie Polymere, Keramik, Metalle und Verbundhalbleiter geeignet ist. Darüber hinaus kann der Reaktor für eine Vielzahl von Verfahren wie Ionenimplantation, PECVD, Sputtern und eine Vielzahl von chemischen Ätzanwendungen eingesetzt werden. Abschließend ist APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ein fortschrittliches, zuverlässiges und präzises Werkzeug, das in der Halbleiterindustrie verwendet wird, um die Prozessleistung zu verbessern und eine präzisere Überwachung zu ermöglichen. Es verfügt über eine Reihe von Funktionen, die es ideal für eine Vielzahl von Anwendungen machen und präzise und wiederholbare Ergebnisse, eine präzise Überwachung und einen robusten Betrieb in einer sicheren Arbeitsumgebung bieten. Es ist die perfekte Wahl für die Präzisionsbearbeitung in der Halbleiterindustrie.
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