Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9392286 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor ist ein Hochleistungsinstrument, das Anwendern bei der Herstellung präziser Parameter für die Metallabscheidung in der Mikroelektronik, Datenspeicherung und optischen Industrie hilft. AMAT P-5000 Reactor bietet eine präzise, einheitliche und wiederholbare Abscheideprozesssteuerung. Es ist mit einer integrierten Vakuumausrüstung ausgestattet, die eine ausgezeichnete Temperaturgleichförmigkeit und Schichteigenschaften ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 Reaktor ist mit einer alternierenden Vorspannungsabscheidungsquelle ausgestattet. Dies wechselt das Abscheidungssubstrat zwischen negativer und positiver Ladung über aufeinanderfolgende Taktzyklen, was dazu beiträgt, eine gleichmäßige Filmabdeckung und eine gleichmäßige Korngröße in der gesamten Schicht zu erreichen. Außerdem wird der Abscheidekammer ein Inertgas zugesetzt, um das Kleben von Partikeln zu reduzieren und durch Unterstützung bei der gleichmäßigen Verteilung der Partikel eine höhere Deckungskonsistenz zu erreichen. P-5000 fortgeschrittene Lageregelung des Reaktors ermöglicht eine präzise Bewegung der einzelnen Wafer oder Zielsubstrate relativ zu den Quellen. Dies ermöglicht eine gleichmäßige Temperaturverteilung über den Wafer und hilft, eine qualitativ hochwertige Abscheidung auf dem gesamten Wafer zu gewährleisten. Das System ist mit einem Massendurchflussregler und einem PID-Regler ausgestattet, der eine automatisierte Abscheideregelung und eine präzise Temperaturregelung ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 Reaktor ist mit einem niedrigen thermischen Budget Option entwickelt, um die thermische Belastung auf den Wafer während der Abscheidung zu minimieren. Dies hilft, Verzug und andere Schäden an den Wafern zu reduzieren. Durch den Einsatz einer fortschrittlichen Steuereinheit hilft AMAT P5000 Reactor, die Komplexität des Abscheidungsprozesses zu automatisieren und zu reduzieren. P5000 Reaktor eignet sich für die Verwendung mit einer Vielzahl von Abscheidungstechniken, einschließlich chemischer Dampfabscheidung (CVD) und physikalischer Dampfabscheidung (PVD). Es ist auch mit einer Echtzeit-Überwachungsmaschine ausgestattet, die die Analyse des gesamten Abscheidungsprozesses, die Verfolgung der Werkzeugleistung und die Analyse von Prozessrezepten für einzelne Schichten ermöglicht. Dies hilft dem Anwender, den Betrieb zu optimieren, Ausfallzeiten zu reduzieren und die Gesamtprozesskontrolle zu verbessern. Abschließend ist P 5000 Reaktor ein Hochleistungsinstrument mit präziser Prozesssteuerung, das gleichmäßige und wiederholbare Abscheideprozesse ergibt. Seine fortschrittlichen Steuerungssysteme helfen bei der Automatisierung und Vereinfachung des Abscheidungsprozesses, während seine niedrigen thermischen Budgetfunktionen helfen, thermische Belastungen auf den Wafern zu reduzieren. Dies trägt dazu bei, eine qualitativ hochwertige Abscheidung sowie erhöhte Prozessstabilität und Optimierung zu gewährleisten.