Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9399067 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein Mehrkammer-, Niederserienreaktor für die Halbleiterverarbeitung. Es ist in der Lage, Materialschichten auf eine Halbleiterscheibe mit extrem feiner Präzision und Genauigkeit abzuscheiden, zu ätzen und zu reinigen. AMAT P-5000 besteht aus einer Reihe verschiedener Kammern, die alle zusammenarbeiten, um das gewünschte Ergebnis zu erzielen. APPLIKATIONSMATERIALIEN P 5000 besteht aus einer Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Kammer, einer Rapid Thermal Process (RTP) Kammer und einer Ätzkammer. Jede dieser Kammern enthält die notwendigen Werkzeuge und Komponenten, um ihre jeweiligen Prozesse zu erreichen. Die PECVD-Kammer erzeugt Materialschichten mit einem Plasmagas, das ein Gas mit vielen geladenen Partikeln und Ionen ist. Dieses Gas wird durch ein hochfrequentes elektrisches Feld angeregt, um es aufzuheizen und in einen Dampf abzubauen. Dieser Dampf wird dann im Vakuum in die Reaktorkammer eingespeist, wo er zum Aufbringen von Material auf das Substrat verwendet wird. Die RTP-Kammer dient zum schnellen thermischen Glühen oder zum Erwärmen und Kühlen des Substrats, um eine Reaktion auszulösen. In dieser Kammer wird das Substrat erhitzt und anschließend sofort abgekühlt, um die von der PECVD-Kammer abgeschiedenen Folien zu verbessern. Die Ätzkammer dient dann zum Ätzen oder Entfernen von unerwünschtem Material aus dem Substrat. Das Ätzgerät verwendet eine Kombination von Gasen, einschließlich eines fluorierten Perfluorkohlenwasserstoffs (FPC) und eines plasmaerzeugenden Gases, um Schichten aus unerwünschtem Material zu entfernen. Neben den Kammern verfügt AMAT P5000 auch über ausgeklügelte Steuerungssysteme, die es dem Anwender ermöglichen, die in den Kammern ablaufenden Prozesse zu überwachen und anzupassen. Dazu gehört die Fähigkeit, unter anderem Temperatur, Druck und Gasdurchfluss einzustellen, um das optimale Ergebnis zu erzielen. Insgesamt ist P 5000 ein hochentwickelter und präziser Reaktor, der beim Erzeugen und Ätzen von Materialschichten auf einem Substrat feine Präzision erzielen kann. Seine vielen einstellbaren Steuerungen und Kammern kombinieren, um dem Benutzer das ultimative Werkzeug zum Ablegen, Ätzen und Reinigen von Halbleiterscheiben zu bieten.