Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9400331 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 reactor ist eine Art von Ionenimplantationsausrüstung, die entwickelt wurde, um Dotierungsionen in Substrate oder andere Materialien zu implantieren. Mit diesem Verfahren wird das elektrische Verhalten eines Halbleitermaterials, vorwiegend Silizium, modifiziert. AMAT P-5000 ist ein Spaltreaktor mit einer gekapselten Ionenquelle und einer Beschleunigungsanlage in einem separaten Gehäuse. Durch diese Ausgestaltung kann die Implantatkammer, die das Substrat enthält, in einer Inertgasumgebung montiert und betrieben werden. Angewandte Materialien P 5000 Reaktor hat mehrere Quellen, so dass es verschiedene Ionen in das Substrat implizieren. In einer typischen Konfiguration wird eine axiale Vakuumionenpistole verwendet, um Bor, Arsen oder Phosphor-Ionen in das Substrat zu implantieren, wobei eine endmontierte planare Ionenpistole zum Implantieren von Galliumionen verwendet wird. Die maximale Implantatenergie der Vorrichtung wird mit einem Strahlstrom von 1000keV 200μA. Darüber hinaus beträgt die Dosisgenauigkeit von P 5000 etwa 1% mit einem weiten Bereich der Anpassung. APPLIED MATERIALS P5000 ist mit einer automatisierten höhenverstellbaren Substratstufe ausgestattet, mit der das Substrat vor der Implantation angehoben oder abgesenkt werden kann. Zusätzlich kann die Höhe und Neigung der Substratstufe präzise gesteuert werden, und das Gerät umfasst ein fortgeschrittenes Strahlheizsystem, um das Risiko einer Implantationsinstabilität zu verringern. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 enthält eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, um sicherzustellen, dass die Ausrüstung sicher und sicher betrieben wird. Dazu gehören eine ausfallsichere Verschlusseinheit, die schließt, wenn der Druck in der Implantatkammer eine bestimmte Grenze überschreitet, sowie Druck- und Temperaturalarme. Außerdem werden alle Implantationsparameter während des Implantationsprozesses automatisch überwacht und protokolliert, so dass der Reaktor ferngesteuert betrieben werden kann. Insgesamt ist AMAT P 5000 ein leistungsstarker, vielseitiger und sicherer Ionenimplantationsreaktor, mit dem die elektrischen Eigenschaften von Halbleitermaterialien verändert werden können. Die verschiedenen Sicherheitsmerkmale wie die ausfallsichere Verschlussmaschine und die automatisierte Überwachung sorgen dafür, dass sie sicher und zuverlässig betrieben wird. Darüber hinaus verbessern die verstellbare Substratstufe und das Strahlheizwerkzeug ihre Funktionalität und Leistung weiter.