Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9400379 zu verkaufen

AMAT oder AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist eine Art von CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der zur Dünnschichtabscheidung verwendet wird und aus einer beheizten Kammer mit Quarzfenster und Duschkopf besteht. Das CVD-Verfahren in dieser Anlage erzeugt eine chemische Reaktion zwischen zwei gasförmigen Chemikalien, die einen dünnen Film über dem Substrat erzeugen. AMAT P-5000 ist für hohen Durchsatz und Produktivität in einem automatisierten, benutzerfreundlichen System konzipiert, was es zu einer idealen Wahl für den Produktionseinsatz macht. Der Reaktor wird von einer turbogepumpten Einheit angetrieben, die eine vielseitige Kombination aus Niederdruck, hohen Pumpgeschwindigkeiten und hohen Gasströmen liefert. Dies ermöglicht höhere Abscheideraten und verbesserte Ausbeute für eine Vielzahl von Dünnschichtanwendungen. Der Reaktor besteht aus einer Hauptvakuumkammer, einem Quarzfenster und einem Heizkasten. Die Vakuumkammer ist aus Edelstahl mit mehreren Formen der Isolierung um die Kammerwände herum ausgebildet. Die Wände werden mit hermetisch abgedichteten Schweißnähten miteinander verbunden, um Wärmeverluste zu reduzieren und eine gute Abdichtung gegenüber der Umwelt zu gewährleisten. Die Kammer ist mit einer Turbopumpenmaschine ausgestattet, die den niedrigen Druck in der Kammer aufrechterhält und die optimale Umgebung für die Dünnschichtabscheidung schafft. Das Quarzfenster am Reaktor ist so ausgelegt, dass ein gleichmäßiger Gaseinlass möglich ist und eine gleichmäßige Temperatur über die Substratoberfläche ermöglicht wird. Das Quarzfenster dient auch zum Schutz der Substrate vor Temperatur und Partikelverunreinigungen, wodurch die Substratoberfläche sauber und frei von Verunreinigungen bleibt. Die Heizbox wird verwendet, um die konsistente Temperatur innerhalb der Kammer zu halten. Die Temperaturregelung erfolgt entweder manuell oder über ein Rechnersteuermodul. Die Heizung besteht üblicherweise aus zwei Elementen, von denen eines ein Heizelement und das andere ein Raster von Sensoren ist. Darüber hinaus enthält APPLIED MATERIALS P 5000 einen Duschkopfarm zum einfachen Halten des Substrats während der Dünnschichtabscheidung. Der Duschkopf dient dazu, eine gleichmäßige Verteilung der gasförmigen Chemikalien auf das Substrat zu gewährleisten. Sie verbessert auch die Gleichmäßigkeit der dünnen Filme durch gleichmäßige Verteilung des Gasstroms in gleichmäßige kreisförmige Muster auf das Substrat. Alle diese Komponenten verbinden sich zu APPLIED MATERIALS P5000, einem revolutionären Reaktor für die Dünnschichtabscheidung. Das Tool bietet Anwendern eine zuverlässige und automatisierte Plattform zur Erzielung eines hohen Abscheidungsdurchsatzes für große und kleine Substrate. Sein vielseitiges Design macht es auch zu einer guten Wahl für Produktions- und Forschungsumgebungen. Mit AMAT P5000 setzt APPLIED MATERIALS den Standard für die nächste Generation von Dünnschichtabscheidungssystemen.