Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9402168 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor ist ein fortschrittliches Produktionswerkzeug mit hohem Durchsatz für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es bietet eine kostengünstige Plattform für die Herstellung von Silizium-basierten und anderen Halbleiterbauelementen. AMAT P-5000 ist eine thermische Einzelwafer-Ausrüstung, die viele neue, neuartige Technologien verwendet, um überlegene Gleichmäßigkeit, Durchsatz und Zuverlässigkeit zu bieten. APPLIKATIONSMATERIALIEN P 5000 wird hauptsächlich zum Abscheiden und Mustern von Filmen auf Wafern in Form einer lithographischen „Maske“ verwendet. Diese Maske enthält häufig Funktionen wie KE-Shapes, Schaltungsleitungen und andere Funktionen wie Kontaktpads, Vias und Verbindungen. Diese Maske wird erzeugt, um KEs auf dem Wafer zu erzeugen, die dann verwendet werden können, um elektrische Verbindungen zu erzeugen oder zu verstärken oder gewünschte Muster zu bilden. Das Design des P5000Reactors umfasst eine automatisierte Stickstoff/Argon-Reinigungsfähigkeit, ein intelligentes Steuerungssystem und eine erstklassige Entwicklungssoftware für Prozessrezepte. Alle diese Funktionen sind darauf ausgerichtet, für AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 eine überlegene Gleichmäßigkeit, Durchsatz und Zuverlässigkeit zu bieten. Die automatisierte Stickstoff-/Argon-Reinigungsfähigkeit reduziert die Partikelverunreinigung und bietet eine hervorragende Kontrolle über Filmstöchiometrie und Filmgleichförmigkeit. Die intelligente Steuerung optimiert die Prozessbedingungen für jedes der verfügbaren Prozessrezepte. Die integrierte Rezept-Entwicklungssoftware bietet bewährte, optimierte Rezepte für die schnelle Einrichtung neuer Aufgaben, so dass Kunden die Werksausgabe maximieren können. APPLIED MATERIALS P-5000 sorgt auch für eine beispiellose Temperaturgleichmäßigkeit in der Abscheidekammer. Die Dreizonen-Temperaturregelmaschine ermöglicht gleichmäßige Temperaturverteilungen auf dem Wafer, was eine verbesserte Prozesssteuerung und Waferqualität ermöglicht. Darüber hinaus verfügt AMAT P 5000 über einen ausgezeichneten Durchsatz, mit der Fähigkeit, bis zu 80 Wafer pro Stunde zu verarbeiten. Insgesamt ist AMAT P5000 ein fortschrittlicher Reaktor, der speziell für die Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Es ist mit einer Reihe von Funktionen ausgestattet, die überlegene Gleichmäßigkeit, Durchsatz und Zuverlässigkeit ermöglichen und den Trend zur Steigerung der Effizienz und Produktivität in den Herstellungsprozessen von Halbleiterbauelementen fördern.