Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9402494 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ist ein vielseitiger, zuverlässiger und fortschrittlicher Reaktor, der in einer Vielzahl von industriellen Prozessen eingesetzt wird. AMAT P-5000 ist für den Einsatz in der Herstellung von Halbleiterbauelementen, der Nanotechnologie und anderen fortschrittlichen Materialanwendungen konzipiert. Es ist ein fortgeschrittener „Aerobic“ Typ 850mm Vakuumkammerreaktor (verkürzt: Aer-850M). APPLIED MATERIALS P 5000 ist ein einzelnes Waferverfahren mit fortschrittlichen PVD- und komplexen Dünnschichttechnologien. Es liefert einen Prozess, der auf einzigartigen Abmessungen und Parametern für fortschrittliche Metallverbindungen basiert, die der Schlüssel zu Ultra-High-Performance-Anwendungen sind. Das Kammervolumen von P5000 beträgt 650 Liter und der Prozessgasstrom beträgt bis zu 800SLM. Es bietet Wärmemanagement von bis zu 800C, so dass der Benutzer von hohen bis zu niedrigen Temperaturen mit hoher Konsistenz, Wiederholbarkeit und Flexibilität verarbeiten kann. APPLIED MATERIALS P-5000 ermöglicht auch die Steuerung verschiedener atmosphärischer Optionen wie O2, N2, H2 und Ar sowie mehrerer Reaktanden. Darüber hinaus bietet es mehrere erweiterte temperaturprogrammierbare Funktionen und liefert das perfekte Temperaturprofil für eine Vielzahl von Materialien und Abscheideschritten. APPLIED MATERIALS P5000 verfügt über ein Hochdurchsatzdesign, eine Open-Frame-Lüfterkonfiguration und ein integriertes Automatisierungssystem, das seine Flexibilität als Prozesswerkzeug voll ausnutzt. Der modulare Aufbau ermöglicht den Austausch und die Aktualisierung einer Reihe von Komponenten und Funktionen, einschließlich der Steuerung und des Kühlsystems. Auf diese Weise können Benutzer das Gerät an ihre eigenen Anforderungen anpassen. Darüber hinaus ist AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 mit einigen zusätzlichen Funktionen konzipiert, die es zu einer großen Auswahl für fortgeschrittene Materialanwendungen machen. Für den Anfang hat es eine kleine und kompakte Stellfläche, die dem Benutzer hilft, Platz zu sparen. Darüber hinaus verfügt P-5000 über eine Vier-Punkte-Wafer-Ausrichtung, die die Quellverschmutzung reduziert und die Prozessgleichförmigkeit verbessert. Darüber hinaus verfügt es über eine intuitive Touchscreen-Oberfläche zur einfachen Steuerung und Überwachung aller Prozessparameter. All diese Funktionen machen AMAT P5000 zu einem fortschrittlichen, zuverlässigen und flexiblen Reaktor zur Herstellung fortschrittlicher Materialien. Es ist ideal für Anwendungen wie Hochleistungsfolien, Dielektrikum, Halbleiter und Nanotechnologie. Die Fähigkeit von AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000, sowohl Hochtemperatur- als auch Tieftemperaturprozesse zu kontrollieren, bietet eine präzise und wiederholbare Verarbeitung, die zu hochwertigsten Endmaterialien führt.